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J-GLOBAL ID：201002276511559160   整理番号：10A1146161

ライン制御のためのダイベース欠陥制限歩留り方法論

A Die-Based Defect-Limited Yield Methodology For Line Control

著者 (1件)： RILEY Stuart L. (Value-Added Software Solutions, TX)
資料名： IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop  (IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop)
巻： 2010  ページ： 27-33  発行年： 2010年 
JST資料番号： W0718A  ISSN： 1078-8743  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： この数年,半導体製造における欠陥モニタリングとその制御に関するドキュメントの整備に進歩のあとがみられる。文献に報告された典型的な方法論は,すべてのウエハ欠陥の数あるいは欠陥密度を通しての管理が多く,歩留りへの影響を推定する電気的故障モードと欠陥を関連づける試みがそれに伴っている。こうしたウエハに基づく方法は歩留りへの欠陥の影響を決定する目的にはあまり適していない。とりわけ,混合型分布(無秩序でしかもクラスタ化した欠陥がそれに混入した分布)したウエハが相手では手におえないほどの複雑さに戸惑う。本報告では,混合型分布ウエハマップのケースについて歩留りへの影響推定に使える欠陥データの適切な統計的な処理手順を述べる。ここで述べるダイベース欠陥制限歩留り(DLY)方法論は無秩序およびクラスタ化欠陥を適切にアドレスし,そして,ダイベースの二段抽出法を適用し,レビューのための欠陥を選択する。ダイへの欠陥の推定歩留りへの影響度を,これらの手順を経て決定することが可能になる。また,さらに,このダイベース方法論をさまざまなサイズをもつ多重製品に適用可能にする手段についても述べた。

シソーラス用語： 生産ライン ,  半導体プロセス ,  半導体チップ ,  *ウエハ【IC】 ,  *欠陥検査 ,  *統計的品質管理 ,  欠陥密度 ,  クラスタ化 ,  密度分布 ,  写像 ,  標本抽出 ,  データ処理 ,  歩留り ,  統計的推定 ,  生産管理
準シソーラス用語： マッピング

分類 (2件)： 固体デバイス計測・試験・信頼性  (NC03040G) ,  固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (6件)： ライン制御 ,  ダイベース ,  欠陥 ,  制限 ,  歩留り ,  方法論