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J-GLOBAL ID：201002276831543254   整理番号：10A0851267

アルゴンイオン照射のもとでのシリコン・ピッチグレーティングの二次元表面構造の発展: 実験とモデリング

Evolution of the 2D surface structure of a silicon pitch grating under argon ion bombardment: Experiment and modeling

著者 (5件)： BIZYUKOV Ivan (Karazin Kharkiv National Univ., Fac. of Physics and Technologies, 31KurchatovAve., Kharkiv61108, UKR) ,  BIZYUKOV Ivan (Univ. of Toronto Inst. for Aerospace Studies, 4925 Dufferin Street, Toronto, Ontario, Canada M3H 5T6) ,  MUTZKE Andreas (Max-Planck-Institut fuer Plasmaphysik, EURATOM Assoc., Wendelsteinstr. 1, 17491 Greifswald, DEU) ,  SCHNEIDER Ralf (Inst. of Physics, Ernst-Moritz-Arndt Univ., Felix-Hausdorff-Str. 6, 17489 Greifswald, DEU) ,  DAVIS James (Univ. of Toronto Inst. for Aerospace Studies, 4925 Dufferin Street, Toronto, Ontario, Canada M3H 5T6)
資料名： Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms  (Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻： 268  号： 17-18  ページ： 2631-2638  発行年： 2010年09月 
JST資料番号： H0899A  ISSN： 0168-583X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *ケイ素 ,  *イオン照射 ,  アルゴン ,  *スパッタリング ,  形態 ,  走査電子顕微鏡
準シソーラス用語： SEM【顕微鏡】 ,  表面形態

分類 (1件)： スパッタリング  (BK16110U)

タイトルに関連する用語 (6件)： アルゴン ,  イオン照射 ,  表面構造 ,  発展 ,  実験 ,  モデリング