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J-GLOBAL ID:201002277168077607   整理番号:10A0421438

合金および金属酸化物上の有機膜挙動の理解

Understanding Organic Film Behavior on Alloy and Metal Oxides
著者 (6件):
資料名:
巻: 26  号:ページ: 1747-1754  発行年: 2010年02月02日 
JST資料番号: A0231B  ISSN: 0743-7463  CODEN: LANGD5  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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ステンレス鋼316Lとニチノール合金の酸化物表面およびそれらの構成金属,(Ni,Cr,Mo,Mn,Fe,Ti)の酸化物表面は,長鎖有機酸により修飾されて有機膜を形成する。金属表面の反応性は表面の等電点が関与すると考えられ,有機膜形成には有機酸のpKaが等電点以下であることが必要とされる。この考えから膜形成能は,Fe>Mn>Ni>Cr>Ti>Moの順と推定される。そこでこれら基板上のオクタデシルホスホン酸/オクタデシルヒドロキサム酸/オクタデカン酸/オクタデシルスルホン酸の膜の付着と安定性を研究した。有機膜の形成には,浸漬法およびエアロゾルスプレー被覆法を用いた。形成された膜を,種々の分析法を用いて調べた。その結果,有機ホスホン酸と有機スルホン酸は全ての金属/合金上に膜を形成し,超音波処理に対しても安定であった。またカルボン酸は鉄とステンレス合金上に安定な膜を形成したが,等電点ルールが予測するニッケル表面上には膜形成しなかった。また合金表面において不活性な金属サイトの存在は膜形成を阻害せず,反応性金属サイトは核化サイトとして作用するものと考えられる。これらの結果からは,等電点ルールは一次的な膜形成予測をすることはできるが,主要な制御因子ではなく他のパラメーターが膜形成を支配しているものと考えられる。
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