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J-GLOBAL ID:201002277287872881   整理番号:10A1152270

電界放出誘起エレクトロマイグレーションを利用した単電子トランジスタの作成

Fabriction of Single-Electron Transistors Using Field-Emission-Induced Electromigration
著者 (4件):
資料名:
巻: 10  号: 11  ページ: 7239-7243  発行年: 2010年11月 
JST資料番号: W1351A  ISSN: 1533-4880  CODEN: JNNOAR  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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活性化法を用いた多重トンネル接合をもつプレーナ型Ni/真空/Niベース単電子トランジスタの製作法を提案した。活性化法で形成した素子の電流-電圧特性は,明らかにCoulombブロッケードに特有な低バイアス域での電流の抑制を示し,室温Coulombブロッケード電圧もゲート電圧により準周期的に変調されることが分かった。さらに,16KでCoulomb階段が観測された。活性化のプリセット電流を利用して,単電子充電エネルギーと素子内の島の数を制御する方法を詳しく調べた。用いた活性化法は簡単であり,またプレーナ型単電子トランジスタの作成を行う容易な方法である。
シソーラス用語:
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分類 (1件):
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トランジスタ 
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