酸化物の反応性堆積におけるスパッタリング収率増幅効果のモデリング

KUBART T.; KUBART T.; NYBERG T.; PFLUG A.; SIEMERS M.; AUSTGEN M.; KOEHL D.; WUTTIG M.; BERG S.

文献

J-GLOBAL ID：201002277532243720 整理番号：10A0661712

酸化物の反応性堆積におけるスパッタリング収率増幅効果のモデリング

Modelling of sputtering yield amplification effect in reactive deposition of oxides

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資料名：
巻： 204 号： 23 ページ： 3882-3886 発行年： 2010年08月25日
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

多くの反応性スパッタ堆積の応用では高い堆積速度が必要である。マグネトロンスパッタにおける基本的な制限因子はターゲットのパワー散逸とターゲット元素のスパッタリング収率である。酸化物の反応性堆積では,最も普通に用いられる酸化物のスパッタリング収率が小さいために堆積速度は特に重要である。従来の高速度技術は,ターゲット上の酸化物形成を避け,遷移領域での動作を可能にするため,酸素分圧のフィードバック制御に依存する。ターゲットドーピングをベースとした別の方法を本論文で報告した。重元素をスパッタリングターゲットに添加することによって実質上スパッタリング収率,つまり堆積速度を向上させることが可能である。反応性雰囲気中でスパッタされた添加ターゲットからのアルミニウムに対する部分スパッタリング収率値のシミュレーションを行った。シミュレーションには,モンテカルロをベースとしたTRICYN計算機コードを用いた。プログラムを用いて,Al₂O₃の堆積のための最大部分スパッタリング収率を得るために最適な合金条件を見出した。我々のシミュレーションは,反応性スパッタリングにおけるスパッタリング収率増幅は非反応性の場合より高い堆積速度増加を導くだろうことを示す。最も高い相対増加は遷移領域で達成されるだろう。しかし,付加的な増大は酸化物モードにおいても予想される。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

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酸化物薄膜

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