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J-GLOBAL ID:201002278141196449   整理番号:10A0387914

P型ポリSi TFTに及ぼすチャネル短縮化効果のキャラクタリゼーション

Characterization of the Channel-Shortening Effect on P-Type Poly-Si TFTs
著者 (3件):
資料名:
巻: 10  号:ページ: 62-70  発行年: 2010年03月 
JST資料番号: W1320A  ISSN: 1530-4388  CODEN: ITDMA2  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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p型ポリSi薄膜トランジスタ(TFT)の劣化挙動を,オフ領域におけるdcホットキャリア及びゲートacストレス下において詳しく研究した。dcホットキャリアストレス下での信頼性に関して,移動度及びシフト閾値電圧の増倍が,p型MOSFETにおける場合,すなわち,チャネル短縮化効果,と同じであることを見出した。しかし,オフ領域における漏れ電流の低減及び容量の増大も,トラップ電子により引き起こされた。このような挙動は,TFTにのみ見られるものであった。オフ領域のゲートacストレスの信頼性に関しても,同様の素子パラメータ改善が見られた。
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分類 (1件):
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トランジスタ 
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