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J-GLOBAL ID：201002279275596849   整理番号：10A0995463

原子状水素曝露によるダイヤモンド状炭素膜の化学結合の変化

Changes in chemical bonding of diamond-like carbon films by atomic-hydrogen exposure

著者 (4件)： NAKAZAWA H. ,  OSOZAWA R. ,  ENTA Y. ,  SUEMITSU M.
資料名： Diamond and Related Materials  (Diamond and Related Materials)
巻： 19  号： 11  ページ： 1387-1392  発行年： 2010年11月 
JST資料番号： W0498A  ISSN： 0925-9635  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ここでは,KrFエキシマレーザを使用するパルスレーザ蒸着法によってSi基板に非水素化ダイヤモンド状炭素(DLC)膜を蒸着して,放射光を用いる光電子分光法(PES)とRaman分光法によって,DLC膜の構造や化学結合に対する原子状水素曝露の影響を調べた。C1sスペクトルから評価される膜表面のsp³結合の分率は,400°Cの基板温度で原子状水素曝露で増加したが,一方,sp³分率は700°Cで曝露時間の増加と共に減少した。sp³分率は,両方の温度で原子状水素に露出された膜の表層より,表面で高いのがわかった。400°Cで原子状水素に露出された膜のRamanスペクトルは,sp²炭素原子のクラスタ化が400°Cのような低温でさえ表面の近くの膜内で進展するのを示した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ダイヤモンド ,  薄膜 ,  反応性 ,  水素 ,  水素化 ,  表面分析 ,  光電子分光法 ,  Raman分光法 ,  化学結合 ,  クラスタ形成 ,  原子間相互作用

分類 (2件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (4件)： 原子状水素 ,  曝露 ,  ダイヤモンド状炭素 ,  化学結合