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J-GLOBAL ID：201002279859656797   整理番号：10A0122344

次世代シリコン太陽電池製造のためのプラズマ技術 7.プラズマCVDによる高速製膜技術を用いた微結晶Si太陽電池の高効率化

著者 (1件)： 外山利彦 (大阪大 大学院基礎工学研究科)
資料名： プラズマ・核融合学会誌  (Journal of Plasma and Fusion Research)
巻： 86  号： 1  ページ： 21-27  発行年： 2010年01月25日 
JST資料番号： G0114A  ISSN： 0918-7928  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 現在,急増している太陽電池需要に対応すべく,薄膜Si太陽電池の生産性改善が急務である。高生産性を得るための製膜に関する技術的手法としては,1)製膜速度の高速化,2)製膜面積の大面積化,および3)同時製膜基板の複数枚化がある。本章では,生産性の改善を特に必要とする微結晶Si太陽電池に関して,高速製膜技術の開発と高速製膜微結晶Si太陽電池の高効率化に関して概説する。(著者抄録)

シソーラス用語： *太陽電池 ,  *プラズマCVD ,  *ケイ素 ,  *微結晶 ,  生産性向上 ,  高圧
準シソーラス用語： *シリコン太陽電池 ,  *微結晶シリコン ,  薄膜太陽電池 ,  大面積 ,  高効率化

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  太陽電池  (NC03084O)

タイトルに関連する用語 (8件)： 次世代 ,  シリコン太陽電池 ,  プラズマ ,  プラズマCVD ,  製膜 ,  結晶Si ,  太陽電池 ,  高効率化