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J-GLOBAL ID：201002281216437502   整理番号：10A0463882

大気圧誘導結合型マイクロプラズマジェット源を用いた酸化銅(I)及び酸化銅(II)の還元

著者 (7件)： 田嶋聡美 (東大 大学院) ,  土屋章一 (東大 大学院) ,  松森正史 (パナソニックファクトリーソリューションズ) ,  中塚茂樹 (パナソニックファクトリーソリューションズ) ,  一木隆範 (東大 大学院) ,  一木隆範 (東大) ,  一木隆範 (JST-CREST)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
巻： 57th  ページ： ROMBUNNO.19P-ZB-14  発行年： 2010年03月03日 
JST資料番号： Y0054B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 誘導結合プラズマ ,  *プラズマジェット ,  *酸化第一銅 ,  *酸化第二銅 ,  プラズマ処理 ,  *還元
準シソーラス用語： マイクロプラズマ ,  大気圧プラズマ

分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： 大気圧 ,  誘導結合 ,  マイクロプラズマジェット ,  酸化銅 ,  還元