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J-GLOBAL ID:201002281339354024   整理番号:10A0195408

チャネル電子のエネルギー分布およびグラフェン電界効果トランジスタのゲート漏れ電流に対するその影響

Energy distribution of channel electrons and its impacts on the gate leakage current in graphene field-effect transistors
著者 (1件):
資料名:
巻: 98  号:ページ: 565-569  発行年: 2010年03月 
JST資料番号: D0256C  ISSN: 0947-8396  CODEN: APHYCC  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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グラフェン電界効果トランジスタでゲート漏れ電流が劇的に増加する理由について考察した。二次元グラフェン電界効果トランジスタ(FET)では線形のエネルギー-運動量関係によりシリコンFETに比較して多くの高エネルギー電子を生じる。すべてのFETで同じ表面電子密度を仮定すると,シリコンFETでは放物線のエネルギー-運動量関係にある。この仮定のもとでの数値計算によれば,グラフェンFETの漏れ電流はシリコンFETよりもはるかに大きい。結果によれば,グラフェンとゲート酸化物との間の伝導バンドオフセットが3.55eVより低ければ,ゲート漏れ電流はシリコンFETよりグラフェンFETにおいてより顕著となった。したがって,グラフェンでは,究極のデバイスサイズに限界が課せられることになる。
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分類 (1件):
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トランジスタ 

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