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J-GLOBAL ID：201002283524413595   整理番号：10A1533057

ナノインプリント技術を適用したオプトメカトロニクスの将来展望 ナノインプリント用モールド~各種材料への応用事例~

著者 (1件)： 出口公吉 (NTTアドバンステクノロジ)
資料名： 光技術コンタクト  (Optical and Electro-Optical Engineering Contact)
巻： 48  号： 11  ページ： 535-540  発行年： 2010年11月20日 
JST資料番号： S0624A  ISSN： 0913-7289  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 各種材料のナノインプリント用モールドの作製技術と応用について解説した。モールドの加工工程,一般的に用いられるモールド材料の物性値,パターン作製のリソグラフィツール,レジスト材料に求められる特性,エッチング技術について説明したのち,モールド作製事例として,熱インプリント用モールドについては,微細加工性に優れた材料のSi,SiO₂/Siモールド,超寿命化を狙いとしたNi電鋳モールド,ガラス成型用として期待される耐薬品性と硬度にすぐれたSiC,グラッシーカーボンモールド,UVインプリント用の3次元形状の石英モールドの作製例を紹介した。

シソーラス用語： *押付成形 ,  *微細加工 ,  型 ,  ナノメータ加工 ,  金型 ,  *リソグラフィー ,  エッチング ,  ケイ素 ,  二酸化ケイ素 ,  ニッケル ,  石英 ,  ガラス状炭素 ,  パターン形成 ,  電鋳
準シソーラス用語： *オプトメカトロニクス ,  グラッシーカーボン ,  テンプレート【型】 ,  *ナノインプリント ,  ナノパターン形成 ,  モールド

分類 (2件)： 成形工程とその装置一般  (YH04030C) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (11件)：

• K. Nakamatsu, K. Watanabe, K. Tone, H. Namatsu, and S. Matsui, J. Vac. Sci. Technol., B 23, 507(2004).
• H. Namatsu, Y. Takahashi, K. Yamazaki, T. Yamaguchi, M. Nagase, and K. Kurihara, J. Vac. Sci. Technol., B 16, 69(1998).
• M. Oda, M. Shimada, T. Tsuchizawa, S. Uchiyama, I. Okada, and H. Yoshihara, J. Vac. Sci. Technol., B 15, 2130(1997).
• K. Kurihara, H. Iriguchi, A. Motoyoshi, T. Tabata, R. Takahasi, K. Iwamoto, I. Okada, H. Yoshihara, and H. Noguchi, Proc. SPIE, vol.4409, 726(2001).
• K. Kurihara, K. Iwadate, H. Namatsu, M. Nagase, and K. Murase, J. Vac. Sci. Technol., B13, 2170(1995).

タイトルに関連する用語 (4件)： ナノインプリント ,  将来展望 ,  モールド ,  応用