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J-GLOBAL ID:201002283787135549   整理番号:10A0555013

イオン注入されたGe中の置換及びクラスターB:歪の決定

Substitutional and clustered B in ion implanted Ge: Strain determination
著者 (5件):
資料名:
巻: 107  号: 10  ページ: 103512  発行年: 2010年05月15日 
JST資料番号: C0266A  ISSN: 0021-8979  CODEN: JAPIAU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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Bが注入されたGe試料中の置換及びクラスターBにより誘起された格子歪が高分解能X線回折(HRXRD)により研究された。主な結果は次のように要約できる:置換(即ち電気的に活性)のBは負の歪を示し,クラスター(即ち電気的に不活性)のBは格子歪を負から正に変える,後者はSi中のクラスターBに対して知られているものより遥かに高い。特に,各B原子当たりの格子体積変化(ΔV)の置換Bによるもの(ΔVSub)及びクラスターBによるもの(ΔVCl)はそれぞれΔVSub=-12.4Å3,ΔVCl=+14.8Å3となる。これらの予想外の結果は電気的に不活性な(及び活性の)Bの量を定量的に検出するためのHRXRDの能力を実証するものである。(翻訳著者抄録)
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半導体の放射線による構造と物性の変化 
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