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J-GLOBAL ID：201002285527130309   整理番号：10A0850081

TD-GCMS/FIDを用いた気体放出測定による193nmレジスト脱保護化の研究

193nm resist deprotection study from outgassing measurements by TD-GCMS/FID

著者 (7件)： TIRON Raluca (LETI, CEA, GRENOBLE, FRA) ,  DERROUGH Samir (LETI, CEA, GRENOBLE, FRA) ,  FONTAINE Herve (LETI, CEA, GRENOBLE, FRA) ,  CETRE Sylviane (LETI, CEA, GRENOBLE, FRA) ,  PERRET Damien (Dow Electronic Materials, GRENOBLE, FRA) ,  THACKERAY James W. (Dow Electronic Materials, Marlborough, USA) ,  PANIEZ Patrick (LTM, CNRS, Grenoble, FRA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7545  ページ： 75450G.1-75450G.10  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 193nmCA(化学増幅)レジストにおける脱保護化のメカニズムを特性評価するための方法論を開発した。CAレジストのプロセスにおいて,酸性物質の拡散に支配される脱保護化のメカニズムは重要であり,よく研究する必要がある。提案手法は,曝露放射線量と焼付温度の関数であるレジストからの気体放出の測定に基づいており,TD-GCMS/FID(熱脱着-ガスクロマトグラフィー-質量分光分析/炎イオン化検出器)技法を使用した。提案手法により,CAレジストの気体放出に関して定量的および定性的な研究が可能となった。PAG(光酸発生剤)やポリマ,溶剤から気体放出される副産物の同定が可能になると同時に,曝露放射線量と焼付温度の関数である定量的結果により,脱保護化プロセスや溶剤蒸発のモニタが可能になった。193nmモデルへ提案手法を適用した結果は,提案手法の有効性と性能を示した。

シソーラス用語： *化学増幅レジスト ,  ガスクロマトグラフィー ,  熱脱着 ,  質量分析 ,  炎イオン化検出器 ,  *脱保護基 ,  ガス放出 ,  リソグラフィー
準シソーラス用語： 気体放出 ,  質量分光分析 ,  *脱保護化

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： FID ,  気体放出 ,  レジスト ,  脱保護化 ,  研究