文献

J-GLOBAL ID：201002286342123019   整理番号：10A0063347

高異方性磁界を有するRu/FeCoB膜の方向性結晶配列と異方的残留応力

Directional alignment and anisotropic internal stress in Ru/FeCoB films with high anisotropy field

著者 (2件)： 中川茂樹 (東京工大) ,  平田健一郎 (東京工大)
資料名： 電気学会マグネティックス研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： MAG-09  号： 168-189  ページ： 53-58  発行年： 2009年12月01日 
JST資料番号： Z0924A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 高飽和磁化薄膜の高周波特性を高めるためには,膜面内の磁気異方性を高めて強磁性共鳴周波数を高くする必要がある。そこで高い面内磁気異方性をもつRu/FeCoB膜について,X線回折(XRD)を用い,方向性結晶配列および異方的残留応力を調べて,面内磁気異方性の発現原因を検討した。Ru下地層上に形成したFeCoB層は,500Oeという大きな面内異方性磁界を持つ。内部応力を明らかにするために,XRDを解析して膜に存在する残留応力を結晶格子の歪から測定する方法を用いた。その結果,残留応力の存在が明らかになり,残留応力は厚さ方向に向って変化していることがわかり,この異方性を有する応力が面内異方性の原因となっていることがわかった。また面内XRDおよび極点図測定により,方向性結晶配列がRu下地層によって生じていることが明らかになった。このような異方性を持つ結晶構造がRu下地上に形成したFeCoB層に残留応力の異方性をもたらしていると考えられる。

シソーラス用語： 飽和磁化 ,  周波数特性 ,  *磁気異方性 ,  異方性磁場 ,  *残留応力 ,  結晶方位 ,  配列 ,  *鉄合金 ,  *コバルト合金 ,  *ホウ素含有合金 ,  *ルテニウム ,  アラインメント ,  強磁性共鳴 ,  *多層膜 ,  X線回折
準シソーラス用語： *二層膜

分類 (3件)： 磁区・磁化過程一般  (BM06111M) ,  金属の磁気異方性・磁気機械効果  (BM06102S) ,  磁性材料  (NA04040H)

引用文献 (7件)：

• E. van de Riet and F. Roozeboom: “Ferromagnetic resonance and eddy currents in high-permeable thin films”, J. Appl. Phys., Vol.81, No.1.1 Jan, p350.(1997)
• Christopher L. Platt, M. K. Minor, and Timothy J. Klemmer: “Magnetic and Structural Properties of FeCoB Thin films”, IEEE Trans. Magn., Vol.37, No.4, July, pp2302.(2001)
• K. Hirata, A. Hashimoto, T. Matsuu and S. Nakagawa: “Ru underlayers for enhancement of in-plane magnetic anisotropy field of Ru/FeCoB film”, Material Science and Engineering B, Vol.161, pp. 134(2009)
• M. Naoe, S. Yamanaka, Y. Hoshi: “Facing targets type of sputtering method for deposition of magnetic metal films at low temperature and high rate”, IEEE Trans. Magn., Vol. MAG-16, No.5, pp. 646(1980)
• K. Tanaka, K. Suzuki, Y, Akiniwa: Evaluation of Residual Stresses by X-Ray Diffraction-Fundamentals and Applications-, p 99, Yokendo Ltd. Tokyo, Japan,(2006)

タイトルに関連する用語 (5件)： 異方性磁界 ,  Ru ,  方向性 ,  結晶 ,  残留応力