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J-GLOBAL ID：201002286446108240   整理番号：10A0685238

電子ビームリソグラフィー(EBL)によるSi系フォトニック結晶スタンプの設計と作製

Design and Fabrication of Si-based photonic crystal stamps with Electron Beam Lithography (EBL)

著者 (4件)： JANNESARY Reihaneh (Univ. Linz, Linz, AUT) ,  BERGMAIR Iris (Univ. Linz, Linz, AUT) ,  ZAMIRI Saeid (Univ. Linz, Linz, AUT) ,  HINGERL Kurt (Univ. Linz, Linz, AUT)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7637  ページ： 763720.1-763720.8  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 紫外線硬化プレポリマにパターンを移動するために,カスタム設計し,電子ビームリソグラフィー(EBL)でパターン形成した構造を大量複製するための技術を報告した。本方法は最大1m²の面積をパターン形成できるディスポーザブルマスタ技術(DMT)に基づき,サブ波長光学素子の大面積配列の大量生産に適する。例として,フォトニック結晶光波回路と光ファイバ系の低損失相互接続用の集積光結合素子によるフォトニック結晶構造の作製を選んだ。実験では260nmのポジ型レジストを用いた。

シソーラス用語： *電子ビームリソグラフィー ,  光ファイバ ,  光回路 ,  *フォトニックバンドギャップ ,  SOI構造 ,  *相互接続 ,  押付成形 ,  *フォトニック結晶
準シソーラス用語： スタンプ

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 電子ビームリソグラフィー ,  Si ,  フォトニック結晶 ,  スタンプ ,  設計 ,  作製