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J-GLOBAL ID：201002286938833633   整理番号：10A0201699

窒化ハフニウム薄膜の調整可能な電気及び光学特性

Tunable electrical and optical properties of hafnium nitride thin films

著者 (7件)： FARRELL I. L. (Dep. of Physics and Astronomy, Univ. of Canterbury, Christchurch 8140, NZL) ,  REEVES R. J. (Dep. of Physics and Astronomy, Univ. of Canterbury, Christchurch 8140, NZL) ,  PRESTON A. R. H. (The MacDiarmid Inst. for Advanced Materials and Nanotechnology, NZL) ,  LUDBROOK B. M. (The MacDiarmid Inst. for Advanced Materials and Nanotechnology, NZL) ,  DOWNES J. E. (Dep. of Physics and Engineering, Macquarie Univ., New South Wales 2109, AUS) ,  RUCK B. J. (The MacDiarmid Inst. for Advanced Materials and Nanotechnology, NZL) ,  DURBIN S. M. (The MacDiarmid Inst. for Advanced Materials and Nanotechnology, NZL)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 96  号： 7  ページ： 071914  発行年： 2010年02月15日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： プラズマ支援パルスレーザ蒸着によりMgO上に成長させたエピタクシー窒化ハフニウム膜の構造及び電子特性を報告する。軟X線吸収及び放出分光法を使って測定した電子構造はバンド構造計算の結果と非常に良く一致した。成長条件を変化させると,膜の反射率がVUに向かってさらに拡張できることを示し,この観測結果を電子構造と関係付けた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： ハフニウム化合物 ,  窒化物 ,  レーザ蒸着 ,  蒸着膜 ,  エピタクシー ,  *X線吸収スペクトル ,  *X線スペクトル ,  軟X線 ,  *バンド構造 ,  *光反射 ,  *パルスレーザ蒸着
準シソーラス用語： *窒化ハフニウム

分類 (3件)： 金属結晶の電子構造  (BM02050C) ,  X線スペクトル一般  (BM08101P) ,  無機化合物の可視・紫外スペクトル  (BM08084P)

タイトルに関連する用語 (3件)： 窒化ハフニウム ,  薄膜 ,  光学特性