シリカに担持したナトリウム修飾12-タングストケイ酸によるイソブテンと1-ブテン混合物中におけるイソブテンの選択的オリゴマ化

ZHANG Jin; KANNO Mitsuru; ZHANG Jiao; OHNISHI Ryuichiro; TORIYABE Kakeru; MATSUHASHI Hiromi; KAMIYA Yuichi

文献

J-GLOBAL ID：201002290280392112 整理番号：10A0677526

シリカに担持したナトリウム修飾12-タングストケイ酸によるイソブテンと1-ブテン混合物中におけるイソブテンの選択的オリゴマ化

Preferential oligomerization of isobutene in a mixture of isobutene and 1-butene over sodium-modified 12-tungstosilicic acid supported on silica

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資料名：
巻： 326 号： 1-2 ページ： 107-112 発行年： 2010年07月01日
JST資料番号： B0605C ISSN： 1381-1169 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

Na⁺イオンによる15wt%H₄SiW₁₂O₄₀/SiO₂の修飾を調べた。Na修飾H₄SiW₁₂O₄₀/SiO₂は,イソブテンと1-ブテンの等モル混合物におけるイソブテンの選択的オリゴマ化で未修飾触媒よりイソブテンオリゴマ化への高い選択性を示し,選択性はNa⁺イオン含有量の増加と共に増大した。最も高い選択性(~97%)をNa₃HSiW₁₂O₄₀/SiO₂を用いて達成した。活性はNa⁺イオン含有量の増加と共に減少した。ベンゾニトリルの温度プログラム脱着の知見として,未修飾H₄SiW₁₂O₄₀/SiO₂は最も外側表面に異なった酸強度をもつ2種の酸部位(媒質及び強酸部位)を有した。しかし,強酸部位はアルカリ金属カチオンによる修飾で除去された。例として,Na₃HSiW₁₂O₄₀/SiO₂は強酸部位が無視できる程の量であった。最も外側表面における強酸部位の欠如が高選択性の理由であることが分かった。また,Li₃HSiW₁₂O₄₀/SiO₂及びK₃HSiW₁₂O₄₀/SiO₂はNa₃HSiW₁₂O₄₀/SiO₂に比較しイソブテンのオリゴマ化に対する活性と共に高選択性を示した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

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その他の触媒 , 塩基,金属酸化物 , 重合触媒,重合開始剤 , 変性プロセス

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