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J-GLOBAL ID：201002290427298052   整理番号：10A0750240

pH8.4ホウ酸塩緩衝液中の純鉄の不動態化への基板転位の影響

Influence of Substrate Dislocation on Passivation of Pure Iron in pH 8.4 Borate Buffer Solution

著者 (4件)： YAMAMOTO Takatoshi (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  FUSHIMI Koji (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  MIURA Seiji (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  KONNO Hidetaka (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
資料名： Journal of the Electrochemical Society  (Journal of the Electrochemical Society)
巻： 157  号： 7  ページ： C231-C237  発行年： 2010年 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アニール処理した基板に冷間圧延により転位を誘発し,pH8.4ホウ酸塩緩衝液中の純鉄の不動態化への影響を研究した。電気化学インピーダンス分光法と電波グロー放電発光分光法で圧延鉄上の不動態膜のドナー密度,フラットバンド電圧,膜厚等の特性を研究した。冷間圧延基板の最大転位密度は縮率60%で得られた。転位密度が増加すると不動態化で消費される電荷や不動態維持電流が増加した。基板転位を金属点欠陥から成ると仮定すると,転位密度から評価した不動態膜中のドナー密度は,Mott-Schottkyプロットと一致する。基板転位により基板/膜界面での酸化反応が増加し,高欠陥不動態膜が生成される。

シソーラス用語： *ホウ酸塩 ,  緩衝液 ,  *純鉄 ,  *不動態化 ,  *転位【結晶】 ,  冷間圧延 ,  電気化学インピーダンス ,  原子発光分析 ,  ドナー ,  密度 ,  電圧 ,  膜厚 ,  点欠陥 ,  特性曲線 ,  不均一系反応 ,  酸化
準シソーラス用語： グロー放電発光分光法 ,  フラットバンド電圧 ,  Mott-Schottkyプロット ,  界面反応

分類 (3件)： 無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  金属の格子欠陥  (BK12030F) ,  電極過程  (CB07040U)

タイトルに関連する用語 (5件)： ホウ酸塩 ,  緩衝液 ,  純鉄 ,  不動態化 ,  転位