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J-GLOBAL ID:201002291085427587   整理番号:10A0201096

パルス沈着と連続成長 サブ単原子層領域のモンテカルロ研究

Pulsed Depositions vs. Continuous Growth: Monte Carlo Study of Submonolayer Regime
著者 (2件):
資料名:
巻:ページ: 65-68 (J-STAGE)  発行年: 2010年 
JST資料番号: U0016A  ISSN: 1348-0391  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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2モードのエピタキシャル成長-決まった繰返し速度(PLDモード)でのパルス沈着と一定流量(MBEモード)の連続成長の速度論と表面特徴の時間変化を比較する理論的研究を紹介した。サブ単原子層領域に限定する。基板温度と被覆率の関数としてアイランドの形態を調べアイランドの密度を解析した。両ケースで温度の関数としてのアイランド密度の挙動は全く異なることが分かった。温度が十分に高い場合はPLDモードでのアイランド密度はMBEモードでよりもかなり高い。PLDの場合には,一定の温度間隔でアイランド密度の異常な温度依存性が認められた。小アイランドの濃度の温度依存性を解析し,異常な挙動はPLD成長時の小さい表面クラスタの持続と関係していることが分かった。この成長モードでの小アイランドの濃度は非常に低いので,MBE成長では異常がない。最近の実験を基とする特定の物質パラメータをもつ全拡散固体上固体モデルを用いてモンテカルロ速度シミュレーションによってこの問題を検討した。(翻訳著者抄録)
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分類 (3件):
分類
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物理化学一般その他  ,  薄膜一般  ,  気相めっき 
引用文献 (9件):
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