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J-GLOBAL ID：201002291682555898   整理番号：10A0465193

熱ナノインプリントを利用したMOVPE選択成長

著者 (6件)： 井上理樹 (北大 大学院) ,  佐藤拓也 (北大 量集セ) ,  池辺将之 (北大 大学院) ,  原真二郎 (北大 量集セ) ,  福井孝志 (北大 量集セ) ,  本久順一 (北大 大学院)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
巻： 57th  ページ： ROMBUNNO.18A-TM-13  発行年： 2010年03月03日 
JST資料番号： Y0054B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ヒ化ガリウム ,  化合物半導体 ,  *ナノワイヤ ,  *MOCVD ,  選択成長 ,  エピタクシー ,  押付成形 ,  リソグラフィー ,  *パターン形成 ,  ケイ素 ,  二酸化ケイ素 ,  ポリメタクリル酸メチル ,  マスク ,  RIE【エッチング】 ,  半導体薄膜
準シソーラス用語： *熱ナノインプリントリソグラフィー

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (3件)： 熱ナノインプリント ,  MOVPE ,  選択成長