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J-GLOBAL ID：201002293053273815   整理番号：10A0426105

常圧MOCVDを利用した酸化亜鉛膜の形成とその物性

著者 (4件)： 金田拓也 (阪大 太陽エネ研セ) ,  釜井亮 (阪大 太陽エネ研セ) ,  池田茂 (阪大 太陽エネ研セ) ,  松村道雄 (阪大 太陽エネ研セ)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 90th  号： 3  ページ： 836  発行年： 2010年03月12日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 常圧MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)は真空系を利用せず,安価に膜を形成することができる薄膜形成技術である。ここではこの常圧MOCVDの装置を用いてジエチルジンクと水の反応による酸化亜鉛の成膜をガラス基板上に行い膜の物性を評価した。デバイス応用のためには,低抵抗酸化亜鉛膜が求められていることから,ドーパントとしてトリメチルアルミニウムを用い,比抵抗率の制御を行った。(著者抄録)

シソーラス用語： *酸化亜鉛 ,  *薄膜 ,  *MOCVD ,  *薄膜成長 ,  基板 ,  電気装置部品 ,  電気抵抗 ,  X線回折 ,  Hall効果 ,  ドーパント ,  電気抵抗率 ,  制御
準シソーラス用語： ガラス基板

分類 (3件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (2件)： ジエチル亜鉛 ,  トリメチルアンモニウム

タイトルに関連する用語 (4件)： 常圧 ,  MOCVD ,  酸化亜鉛 ,  物性