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J-GLOBAL ID：201002293578317066   整理番号：10A0389603

αアルミナ-g-ポリスチレンスルホン酸複合研磨剤によるハードディスク基板の化学機械研磨

Chemical mechanical polishing of hard disk substrate with α-alumina-g-polystyrene sulfonic acid composite abrasive

著者 (7件)： LEI Hong (Res. Center of Nano-science and Nano-technology, Shanghai Univ., Shanghai 200444, CHN) ,  BU Naijing (Res. Center of Nano-science and Nano-technology, Shanghai Univ., Shanghai 200444, CHN) ,  CHEN Ruling (Res. Center of Nano-science and Nano-technology, Shanghai Univ., Shanghai 200444, CHN) ,  HAO Ping (Res. Center of Nano-science and Nano-technology, Shanghai Univ., Shanghai 200444, CHN) ,  NENG Sima (Shenzhen Kaifa Magnetic Recording Co., LTD, Shenzhen, 518035, CHN) ,  TU Xifu (Shenzhen Kaifa Magnetic Recording Co., LTD, Shenzhen, 518035, CHN) ,  YUEN Kwok (Shenzhen Kaifa Magnetic Recording Co., LTD, Shenzhen, 518035, CHN)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 518  号： 14  ページ： 3792-3796  発行年： 2010年05月03日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： αアルミナ-g-ポリスチレンスルホン酸(α-Al₂O₃-g-PSS)複合研磨剤を表面活性化,グラフト重合及びスルホン化により作製した。作製したものの組成,分散性及びモルフォロジーをそれぞれFourier変換赤外分光,レーザ粒子サイズ分析及び走査電子顕微鏡により評価した。ニッケル-リンめっきしたハードディスク基板に対する複合研磨剤の化学機械研磨(CMP)性能を調べた。研磨した表面の顕微鏡像は,α-Al₂O₃-g-PSS複合研磨剤は純粋なαアルミナ研磨剤よりも同じ試験条件下でCMP及びポストCMPクリーニングの性能向上を示した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *αアルミナ ,  *ポリスチレンスルホン酸 ,  *グラフト共重合体 ,  スルホン化 ,  *研磨剤 ,  複合材料 ,  FTIR分光法 ,  赤外吸収スペクトル ,  走査電子顕微鏡 ,  電子顕微鏡観察 ,  粒度分析 ,  *磁気ディスク ,  ニッケルめっき ,  化学研磨 ,  セラミック ,  *化学機械研磨

分類 (2件)： 研削・研摩材  (YC06020Q) ,  その他の表面処理  (WC08070F)

タイトルに関連する用語 (5件)： αアルミナ ,  ポリスチレンスルホン酸 ,  研磨剤 ,  ハードディスク基板 ,  化学機械研磨