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J-GLOBAL ID：201002293850078858   整理番号：10A0193390

その場XRD分析で研究したAlCoCrCuFeNi高エントロピー合金薄膜の熱安定性

Thermal stability of AlCoCrCuFeNi high entropy alloy thin films studied by in-situ XRD analysis

著者 (5件)： DOLIQUE V. (Groupe de Rech. sur l’Energetique des Milieux Ionises, UMR 6606 CNRS, Univ. d’Orleans BP 6744, 45067 Orleans Cedex 2 ...) ,  THOMANN A.-l. (Groupe de Rech. sur l’Energetique des Milieux Ionises, UMR 6606 CNRS, Univ. d’Orleans BP 6744, 45067 Orleans Cedex 2 ...) ,  BRAULT P. (Groupe de Rech. sur l’Energetique des Milieux Ionises, UMR 6606 CNRS, Univ. d’Orleans BP 6744, 45067 Orleans Cedex 2 ...) ,  TESSIER Y. (Groupe de Rech. sur l’Energetique des Milieux Ionises, UMR 6606 CNRS, Univ. d’Orleans BP 6744, 45067 Orleans Cedex 2 ...) ,  GILLON P. (ICARE CNRS 1C Av. de la Rech. Scientifique, 45071 Orleans Cedex 2, FRA)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 204  号： 12-13  ページ： 1989-1992  発行年： 2010年03月15日 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 各元素の濃度範囲を5~35%として5~13個の金属元素を含んでいる高エントロピー合金(HEA)は,非常におもしろい特性(機械的特性,摩擦学的特性,成形性,磁気特性...)を示す。それらの高い混合エントロピーは,ランダム固溶体,アモルファス合金,ナノ結晶構造などの生成を促進する。これらの合金のバルク片は,比較的高い温度(800°Cまで)で安定であることが知られている。110~810°Cの温度範囲で,AlCoCrCuFeNi薄膜の安定性を研究した。このHEA薄膜はモザイク・ターゲットからのマグネトロンスパッタリングで析出した。熱処理の際に行ったその場X線回折(XRD)で,堆積したHEAの初期構造(または,化学組成)によっては,510°Cより上で,膜の損傷が認められた。焼鈍前後のエネルギー分散分光(EDS)と走査型電子顕微鏡(SEM)分析で,薄膜の部分的な蒸発,結晶の相変態,および基材との化学反応が焼鈍の間に起きる可能性があることが認められた。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *アルミニウム合金 ,  コバルト含有合金 ,  クロム含有合金 ,  銅含有合金 ,  鉄含有合金 ,  ニッケル含有合金 ,  *エントロピー ,  *金属薄膜 ,  *熱安定性 ,  計測 ,  *X線回折 ,  混合 ,  固溶体 ,  非晶質合金 ,  ナノ結晶 ,  マグネトロンスパッタリング ,  スパッタ蒸着 ,  *蒸着膜 ,  基板 ,  ケイ素
準シソーラス用語： XRD ,  アモルファス合金 ,  *その場測定

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  その他の物理的・機械的性質  (WB02040F)

タイトルに関連する用語 (5件)： XRD分析 ,  研究 ,  高エントロピー合金 ,  薄膜 ,  熱安定性