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J-GLOBAL ID：201002294274108718   整理番号：10A1030578

座屈によってCrN薄膜中に生じる応力緩和の推定

Estimation of the stress relief induced in CrN thin films by buckling

著者 (4件)： LAMRI S. (LERMPS Lab. EA 3316, UTBM, 90 010 Belfort Cedex, FRA) ,  LANGLADE C. (LERMPS Lab. EA 3316, UTBM, 90 010 Belfort Cedex, FRA) ,  KERMOUCHE G. (Univ. de Lyon, ENISE, LTDS Lab., CNRS UMR 5513, 42023 St Etienne Cedex, FRA) ,  MARTINEZ V. (Univ. de Lyon, Univ. Lyon I, CNRS UMR 5620, Lab. de Physico-chimie des Materiaux luminescents, Villeurbanne Cedex, F ...)
資料名： Materials Science & Engineering. A. Structural Materials: Properties, Microstructure and Processing  (Materials Science & Engineering. A. Structural Materials: Properties, Microstructure and Processing)
巻： 527  号： 29-30  ページ： 7912-7919  発行年： 2010年11月15日 
JST資料番号： D0589B  ISSN： 0921-5093  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 前報の検討では,繰返し衝撃に供された薄いPVD被膜にはふくれ欠陥が生成し,これが最初の損傷段階であり,やがて破損に至るだろうことを明らかにした。機械的解析の結果からは,ふくれ欠陥の生成は被膜厚さと界面欠陥の大きさにより異なる限界圧縮応力に関係するように思われる。このモデルでは,ふくれ欠陥の生成がその後の局所的な応力緩和につながる。座屈しないCrN薄膜と座屈してふくれ欠陥を生じたCrN薄膜の両方について,生じる応力変化を微視的Raman分光法により明らかにした。局所的解析によって,衝撃を受けた領域の微細組織と応力変異を検出することができた。これらは,観察される破断機構の説明に一般的に用いられる機械的モデルに関連づけることができる。座屈した2種の厚さのCrN薄膜の応力緩和度は,約1.6と2.2GPaと推定した。一方,衝撃の傷跡部分では構造的損傷が観察される。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 座屈 ,  *クロム化合物 ,  *窒化物 ,  *薄膜 ,  応力緩和 ,  膜厚 ,  圧縮応力 ,  ブリスタリング ,  衝撃 ,  物理蒸着 ,  蒸着膜
準シソーラス用語： *窒化クロム ,  膨れ

分類 (2件)： セラミック・磁器の性質  (YC03030G) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (4件)： 座屈 ,  薄膜 ,  応力緩和 ,  推定