文献

J-GLOBAL ID：201002296322978056   整理番号：10A1146848

フォトマスク線幅標準の開発

著者 (5件)： 菅原健太郎 (産業技術総合研 計測標準研究部門) ,  佐藤理 (産業技術総合研 計測標準研究部門) ,  三隅伊知子 (産業技術総合研 計測標準研究部門) ,  権太聡 (産業技術総合研 計測標準研究部門) ,  LU Mingzi (産業技術総合研 計測標準研究部門)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2010  号： 秋季(CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.H24  発行年： 2010年09月10日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： フォトマスク線幅の精密計測技術の開発をおこない,標準供給を開始したので報告する。その手法はAFMとSEMを駆使したものであり,はじめにAFMを用いてクロムパターンの線幅エッジ位置を幾何形状として測定し,次にそのAFM形状データを用いてSEMによる線幅測定値を補正するものである。本手法により,線幅範囲0.5μm-10μmを不確かさ60nmで値付けすることができた。(著者抄録)

シソーラス用語： *フォトマスク ,  *精密測定 ,  原子間力顕微鏡 ,  走査電子顕微鏡 ,  キャリブレーション ,  エッジ検出
準シソーラス用語： 形状データ ,  *線幅

分類 (1件)： 長さ,面積,断面,体積,容積,角度の計測法・機器  (AD05020O)

タイトルに関連する用語 (4件)： フォトマスク ,  線幅 ,  標準 ,  開発