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J-GLOBAL ID：201002297048185202   整理番号：10A0823547

C₆₀添加ポリスチレン-block-ポリブタジエン-block-ポリスチレンに対するUV光照射の影響

Effect of UV Irradiation on Polystyrene-block-Polybutadiene-block-Polystyrene Containing C₆₀ Fullerene

著者 (4件)： 熊谷隆秀 (愛知工大 大学院工学研究科) ,  山田英介 (愛知工大 工) ,  稲垣愼二 (愛知工大 工) ,  曽根一祐 (日東化工 技術開発セ)
資料名： 日本接着学会誌  (Journal of the Adhesion Society of Japan)
巻： 46  号： 8  ページ： 289-295  発行年： 2010年08月01日 
JST資料番号： G0749A  ISSN： 0916-4812  CODEN： NSEGE7  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： フラーレンを添加したSBSに対するUV照射の影響を検討した。フラーレンとSBSを二軸ロールで混練して調製した試料にUV照射をしたところ,フラーレンによる励起型の架橋反応が,1000ppmW/W程度という少量添加の試料で起きることを確認した。その試料の照射表面のIR測定から,312nmに極大波長を持つUV照射では,照射時間とともにヒドロキシペルオキシド基が生成した後,カルボニル基が生成する一重項酸素の生成に起因するブタジエン鎖の架橋が進行するのに対し,さらに,254nmの波長を併用したUV照射試料では,両基がほぼ同時に生成して増加する通常のUV架橋が進行することを認めた。UV照射後の試料のトルエン浸漬試験,DSC測定およびDMAの結果は,用いた条件下でSBS表面のポリブタジエン鎖の架橋による物性変化が観察でき,微量のフラーレン存在下で一連の架橋反応が速やかに進行し,諸物性が変化することを確認した。(著者抄録)

シソーラス用語： *フラーレンC60 ,  *SBS【重合体】 ,  複合材料 ,  *光架橋 ,  紫外線照射 ,  反応機構 ,  紫外線 ,  FTIR分光法 ,  機械的性質 ,  ガラス転移点 ,  熱分解 ,  酸化 ,  架橋度 ,  動的機械分析 ,  ネットワーク構造 ,  カルボニル基 ,  ヒドロキシ基
準シソーラス用語： ヒドロキシル基 ,  UV-B ,  UV-C ,  引張特性 ,  架橋反応 ,  厚み依存性 ,  *紫外線架橋 ,  照射時間

分類 (4件)： ゴム  (YH07020M) ,  炭素とその化合物  (YB02060D) ,  光化学反応  (CB08020F) ,  その他の高分子の反応  (CG03040H)

引用文献 (14件)：

• ACHIBA, Y. Chem. Lett. 1991, 20, 1233
• SENSION, R. J. J. Phys. Chem. 1991, 95, 6075
• 高倉剛. 日本接着学会誌. 2009, 45, 338
• 熊谷隆秀. 日本ゴム協会誌. 2009, 82, 400
• 熊谷隆秀. 日本接青学会誌. 2010, 46, 93

タイトルに関連する用語 (4件)： C60 ,  ポリスチレン ,  ポリブタジエン ,  UV光