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J-GLOBAL ID：201002298885759191   整理番号：10A1610503

高周波プラズマ増強化学気相蒸着法による多結晶Co膜上のグラフェンの合成

Synthesis of graphene on a polycrystalline Co film by radio-frequency plasma-enhanced chemical vapour deposition

著者 (9件)： WANG S M (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  PEI Y H (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  WANG X (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  WANG H (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  MENG Q N (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  TIAN H W (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  ZHENG X L (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  ZHENG W T (Jilin Univ., Changchun, CHN) ,  LIU Y C (Northeast Normal Univ., Changchun, CHN)
資料名： Journal of Physics. D. Applied Physics  (Journal of Physics. D. Applied Physics)
巻： 43  号： 45  ページ： 455402,1-6  発行年： 2010年11月17日 
JST資料番号： B0092B  ISSN： 0022-3727  CODEN： JPAPBE  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CH₄/H₂/Ar混合ガスにおいて,800°Cの比較的低温で,40秒のみで,高周波プラズマ増強化学気相蒸着法により,1~5層のグラフェンを多結晶Co膜上に合成した。グラフェン成長時の反応ガスとして,3sccmのCH₄のみ,15sccm H₂と60sccm Arの希釈を使用した。Raman分光とX線光電子分光によって,得られたグラフェンは高品質であることを明らかにした。Co触媒膜が重要な役割を果たしている。波長領域500~1200nm,シート電気抵抗率2661Ω/sqにおいて,70%以上の高い光透過率を示した。冷却プロセス時でのグラフェンの形成に及ぼすCo結晶の表面における八面体と四面体格子の格子間原子位置の重大な影響も検討した。

シソーラス用語： 単一層 ,  *プラズマCVD ,  *結晶成長 ,  コバルト ,  薄膜 ,  混合気体 ,  水素 ,  アルゴン ,  多結晶 ,  光透過 ,  透過率 ,  電気抵抗率 ,  格子間原子 ,  結晶格子 ,  八面体 ,  アルカン ,  *グラフェン
準シソーラス用語： 光透過率

分類 (1件)： その他の無機化合物の結晶成長  (BK13060T)

物質索引 (1件)： メタン

タイトルに関連する用語 (6件)： 高周波プラズマ ,  強化 ,  気相蒸着 ,  多結晶 ,  CO ,  グラフェン