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J-GLOBAL ID：201002299991919285   整理番号：10A1096010

セリアコーティング珪石粒子の合成と特性化とガラス基板に対するそれらの化学機械研摩性能

Synthesis, characterization of ceria-coated silica particles and their chemical mechanical polishing performance on glass substrate

著者 (9件)： ZHANG Zefang (State Key Lab. of Functional Materials for Informatics, Lab. of Nanotechnology, Shanghai Inst. of Microsystem and ...) ,  ZHANG Zefang (Shanghai Xinanna Electronic Technol. Co., Ltd., Shanghai 201506, CHN) ,  ZHANG Zefang (Graduate School of the Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100049, CHN) ,  LIU Weili (State Key Lab. of Functional Materials for Informatics, Lab. of Nanotechnology, Shanghai Inst. of Microsystem and ...) ,  LIU Weili (Shanghai Xinanna Electronic Technol. Co., Ltd., Shanghai 201506, CHN) ,  ZHU Jingkang (State Key Lab. of Functional Materials for Informatics, Lab. of Nanotechnology, Shanghai Inst. of Microsystem and ...) ,  ZHU Jingkang (Shanghai Xinanna Electronic Technol. Co., Ltd., Shanghai 201506, CHN) ,  SONG Zhitang (State Key Lab. of Functional Materials for Informatics, Lab. of Nanotechnology, Shanghai Inst. of Microsystem and ...) ,  SONG Zhitang (Shanghai Xinanna Electronic Technol. Co., Ltd., Shanghai 201506, CHN)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 257  号： 5  ページ： 1750-1755  発行年： 2010年12月15日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノサイズのセリア粒子を,補助剤としてのポリ(ビニルピロリドン)(PVP)で沈殿試液として尿素で硝酸セリウムアンモニウムを使用しながら,沈降法で珪石の表面にコーティングした。セリアでコーティング珪石粒子の構造と組成を,X線回折(XRD),電界放出スキャン顕微鏡法(FE-SEM),エネルギー分散分光学(EDS),透過電子顕微鏡測定(TEM)と動的光散乱(DLS)測定を使用して特徴付けた。結果は,PVPがコーティング過程の間補助剤として使用されたとき,ナノサイズセリア粒子が,粒子の表面の周りに一様にコーティングされ,PVPがなければ,セリア粒子は,珪石表面でまばらに成長し,そして,多くのセリア粒子が,溶液中で独立した核生成で成長する事を示した。次に,ガラス基板上にセリアコーティング珪石粒子の機械研摩(CMP)挙動を調査した。CMP試験結果は,表面品質を悪化させずに,セリアコーティング珪石粒子は純粋な珪石粒子より高い除去速度を示す事を示唆する。さらに,オンライン摩擦係数(COF)を,研磨過程の間行った。COFデータは,セリアコーティング珪石粒子のCOF値が,それらの表面性質のため純粋な珪石粒子のものより大きい事を示す。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *酸化セリウム ,  *被覆 ,  *珪石 ,  *粒子 ,  合成 ,  キャラクタリゼーション ,  *基板 ,  *電気装置部品 ,  *化学研磨 ,  性能 ,  *ポリビニルピロリドン ,  長さ ,  沈殿 ,  医薬品添加剤 ,  アンモニウム化合物 ,  セリウム化合物 ,  硝酸塩 ,  X線回折 ,  走査電子顕微鏡 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  透過型電子顕微鏡 ,  動的光散乱 ,  表面 ,  核形成 ,  速度 ,  摩擦係数 ,  ウレア化合物 ,  *化学機械研磨
準シソーラス用語： *セリア ,  *コーティング ,  特性化 ,  *ガラス基板 ,  ナノサイズ ,  補助剤 ,  硝酸セリウムアンモニウム ,  XRD ,  FE-SEM ,  EDS【分光分析】 ,  TEM【顕微鏡】 ,  核生成 ,  除去速度

分類 (1件)： 各種物理的手法  (CC01030W)

物質索引 (1件)： 尿素

タイトルに関連する用語 (4件)： 珪石 ,  特性化 ,  ガラス基板 ,  研摩性能