特許
J-GLOBAL ID：201003000497805690
パターン化構造の特性をモニタリングする際に使用される方法及びシステム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
村山 靖彦
, 志賀 正武
, 渡邊 隆
, 実広 信哉
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-515659
公開番号（公開出願番号）：特表2010-533376
出願日： 2008年07月13日
公開日（公表日）： 2010年10月21日
要約：
異なる周期パターンを備えた複数のサイトを備えた構造を有する物体の特性を特性評価するのに用いられる方法及びシステムを提供する。本方法は、幾何学的パラメータ及び物質パラメータの少なくとも一つが共通である対応する複数のサイトの幾何学的及び物質パラメータによって定義される異なる積層体の光学特性を示す予測の理論モデルを提供する段階と、物体の少なくとも二つの異なる積層体に対して光学測定を実施して各測定された積層体に対する幾何学的パラメータ及び物質組成パラメータを示す光学測定データを生成する段階と、光学測定データを処理する段階とを備え、該処理する段階が、複数の測定された積層に対する光学測定データを理論モデルで同時にフィッティングし、少なくとも一つの共通パラメータを導出することによって、単一の物体内の多層構造の特性を特性評価することを可能にする段階を備える。
請求項（抜粋）：
異なる周期パターンを有する複数のサイトを備えた多層構造を有する物体の特性を特性評価するための方法であって、
幾何学的パラメータ及び物質パラメータの少なくとも一つが共通である対応するサイトの幾何学的及び物質パラメータによって定義される異なる積層体の光学特性を示す予測の理論モデルを提供する段階と、
前記物体の少なくとも二つの異なる積層体に対して光学測定を実施して、各測定された積層体に対する幾何学的パラメータ及び物質組成パラメータを示す光学測定データを生成する段階と、
前記光学測定データを処理する段階とを備え、該処理する段階が、複数の測定された積層体に対する前記光学測定データを前記理論モデルに同時にフィッティングし、少なくとも一つの共通パラメータを導出することによって、単一の物体内の多層構造の特性を特性評価することを可能にする段階を備える、方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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