特許
J-GLOBAL ID:201003002461886875
凹凸パターンの形成方法および凹凸パターン形成用シート
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (21件):
鈴江 武彦
, 蔵田 昌俊
, 河野 哲
, 中村 誠
, 福原 淑弘
, 峰 隆司
, 白根 俊郎
, 村松 貞男
, 野河 信久
, 幸長 保次郎
, 河野 直樹
, 砂川 克
, 風間 鉄也
, 勝村 紘
, 河井 将次
, 佐藤 立志
, 岡田 貴志
, 堀内 美保子
, 竹内 将訓
, 市原 卓三
, 山下 元
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-042545
公開番号(公開出願番号):特開2010-199298
出願日: 2009年02月25日
公開日(公表日): 2010年09月09日
要約:
【課題】基材を損傷させずに大面積の基材上に微細凹凸パターンを形成する方法を提供する。【解決手段】少なくとも一方の主面に凹凸パターン部を有するシート状部材2を、加熱により流動化させる工程と、前記主面に形成され少なくとも部分的に前記凹凸パターン部と噛合するとともに、前記凹凸パターン部の複数の凹部に渡って連続した反転凹凸パターン層4を介して、前記シート状部材を基材5に圧着する工程と、前記圧着後、前記シート状部材を除去して、少なくとも前記反転凹凸パターン層を前記基材上に残置する工程と、前記シート状部材を除去した後、前記反転凹凸パターン層のパターン形状を前記基材の表面に転写する工程とを具備することを特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
少なくとも一方の主面に凹凸パターン部を有するシート状部材を、加熱により流動化させる工程と、
前記主面に形成され少なくとも部分的に前記凹凸パターン部と噛合するとともに、前記凹凸パターン部の複数の凹部に渡って連続した反転凹凸パターン層を介して、前記シート状部材を基材に圧着する工程と、
前記圧着後、前記シート状部材を除去して、少なくとも前記反転凹凸パターン層を前記基材上に残置する工程と、
前記シート状部材を除去した後、前記反転凹凸パターン層のパターン形状を前記基材の表面に転写する工程と
を具備することを特徴とする凹凸パターン形成方法。
IPC (3件):
H01L 21/306
, H01L 21/027
, B82B 1/00
FI (3件):
H01L21/302 105A
, H01L21/30 502D
, B82B1/00
Fターム (4件):
5F004EA01
, 5F004EA05
, 5F004EA37
, 5F046AA28
引用特許:
前のページに戻る