特許
J-GLOBAL ID：201003004210499760

紫外線照射装置及び光ファイバの被覆形成方法

発明者：
高見澤 宏史

高見澤 宏史 について

, 
服部 知之

服部 知之 について

, 
大石 和正

大石 和正 について


出願人/特許権者：
住友電気工業株式会社

住友電気工業株式会社 について


代理人 (4件)： 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  黒木 義樹 ,  近藤 伊知良
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-290336
公開番号（公開出願番号）：特開2010-117530
出願日： 2008年11月12日
公開日（公表日）： 2010年05月27日
要約：
【課題】 光ファイバを被覆する紫外線硬化型樹脂を十分に硬化可能な紫外線照射装置及び光ファイバの被覆形成方法を提供する。【解決手段】 半導体発光素子35は、矢印K1〜K4で示されるように、光ファイバFに近づいたり、離れたりするように移動し、集光レンズ34を介して集光される紫外線UVの集光位置が移動する。この集光位置は、被覆樹脂上とすることもできるし、被覆樹脂の位置からは外すこともできる。光ファイバの高速線引時には、外層C2の表面又は内層C1の表面上に集光位置を合わせるが、光ファイバの低速線引時には、外層C2の表面又は内層C1の表面上から集光位置をずらす。換言すれば、線速に応じて、半導体発光素子35の光ファイバFからの距離が変わり、低速時には照射強度が小さくなり、高速時には照射強度が高くなる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
光ファイバの表面に塗布された紫外線硬化型樹脂に、紫外線を照射して前記紫外線硬化型樹脂を硬化させる紫外線照射装置において、 前記紫外線硬化型樹脂に紫外線を照射可能な位置に設けられた半導体発光素子と、 前記半導体発光素子から出射された紫外線を集光する集光レンズと、 前記紫外線の集光位置を移動させる移動手段と、 を備えることを特徴とする紫外線照射装置。
IPC (3件)：
G02B 6/44 ,  H01L 33/32 ,  C03C 25/12
FI (3件)：
G02B6/44 301B ,  H01L33/00 C ,  C03C25/02 C
Fターム (22件)：
2H150BA03 ,  2H150BA18 ,  2H150BA25 ,  2H150BA32 ,  2H150BB02 ,  2H150BB13 ,  2H150BB18 ,  2H150BB19 ,  2H150BB33 ,  2H150BC02 ,  2H150BD00 ,  4G060AA03 ,  4G060AD43 ,  4G060AD55 ,  4G060AD58 ,  5F041CA40 ,  5F041DA01 ,  5F041DA12 ,  5F041DA20 ,  5F041DA78 ,  5F041EE16 ,  5F041FF16
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 光ファイバ被覆装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-280338   出願人：古河電気工業株式会社
審査官引用 (6件)
  • 光ファイバ被覆装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-280338   出願人：古河電気工業株式会社
  • 特開昭64-087536
  • 特開昭63-017240
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