特許
J-GLOBAL ID：200903072751295142

紫外線照射装置

発明者：
及川 貴弘

及川 貴弘 について


出願人/特許権者：
オムロン株式会社

オムロン株式会社 について


代理人 (6件)： 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-106462
公開番号（公開出願番号）：特開2006-281130
出願日： 2005年04月01日
公開日（公表日）： 2006年10月19日
要約：
【課題】 効率的に紫外線発光ダイオードに生じる熱を放熱することが可能な紫外線照射装置を提供する。【解決手段】 紫外線照射装置の照射ヘッド部120は、内部に収容空間が形成されたハウジングと、上記収容空間に配置され、紫外線照射口120aを介して紫外線を照射する紫外線発光ダイオード127とを備える。ハウジングは、基板ホルダ121、レンズホルダ124,125を含む。基板ホルダ121は、アルミニウムからなる基材部と、この基材部の収容空間に面する部分に形成された被覆層とを有する。被覆層は、黒色アルマイト処理にて形成された黒色の酸化被膜である。また、基板ホルダ121の外表面には、フィン121dが設けられている。【選択図】 図6
請求項（抜粋）：
紫外線を照射するための紫外線照射口を有し、内部に収容空間が設けられたハウジングと、前記収容空間に配置され、前記紫外線照射口を介して紫外線を前記ハウジング外部に照射する紫外線発光ダイオードとを備えた紫外線照射装置であって、 前記ハウジングは、基材部と、前記基材部の前記収容空間に面する部分の少なくとも一部に設けられた被覆層とを有し、 前記被覆層の赤外線吸収率は、前記基材部の赤外線吸収率よりも高い、紫外線照射装置。
IPC (3件)：
B01J 19/12 ,  B29C 35/08 ,  G21K 5/00
FI (3件)：
B01J19/12 C ,  B29C35/08 ,  G21K5/00 Z
Fターム (16件)：
4F203AA44 ,  4F203AJ09 ,  4F203AK03 ,  4F203DA12 ,  4F203DA14 ,  4F203DC08 ,  4F203DN21 ,  4G075AA32 ,  4G075BA10 ,  4G075CA33 ,  4G075DA02 ,  4G075EB34 ,  4G075EE02 ,  4G075FA02 ,  4G075FA05 ,  4G075FA12
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 国際公開第01/086261号パンフレット
審査官引用 (8件)
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