特許
J-GLOBAL ID:201003004758578390

ガス化炉装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 藤田 考晴 ,  上田 邦生
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-229520
公開番号(公開出願番号):特開2010-059383
出願日: 2008年09月08日
公開日(公表日): 2010年03月18日
要約:
【課題】燃料を不要とする低酸素濃度の乾燥用ガス供給源を備えたガス化炉装置を提供する。【解決手段】石炭を粉砕して微粉炭を製造する微粉炭機1と、空気を酸素及び窒素のガスに分離する空気分離装置3と、微粉炭及び酸素のガスを導入して製品ガスを製造するガス化炉2とを備え、微粉炭を乾燥させる低酸素濃度ガス源として、空気分離装置3から余剰窒素ガスの供給を受けて窒素で希釈した空気が用いられ、かつ、低酸素濃度ガス源を乾燥可能温度に加熱するエアヒータ5を設けた。【選択図】図1
請求項(抜粋):
石炭を粉砕して微粉炭を製造する微粉炭機と、空気を酸素及び窒素のガスに分離する空気分離装置と、前記微粉炭と前記酸素及びガスとを導入して製品ガスを製造するガス化炉とを備え、 前記微粉炭を乾燥させる低酸素濃度ガス源として、前記空気分離装置から余剰窒素ガスの供給を受けて窒素で希釈した空気が用いられ、かつ、前記低酸素濃度ガス源を乾燥可能温度に加熱する加熱部を設けたことを特徴とするガス化炉装置。
IPC (1件):
C10J 3/46
FI (2件):
C10J3/46 G ,  C10J3/46 H
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 特開昭61-175241号公報
審査官引用 (4件)
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