特許

J-GLOBAL ID：201003006479700510

浮游拡散型乾燥装置

発明者： 市川 卓司 ,  増田 健太 ,  永富 隆司 ,  葛山 功
出願人/特許権者： 大平洋機工株式会社 ,  桂商事株式会社
代理人 (3件)： 杉谷 嘉昭 ,  杉谷 裕通 ,  森下 靖侑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-081278
公開番号（公開出願番号）：特開2010-230295
出願日： 2009年03月30日
公開日（公表日）： 2010年10月14日
要約：

【課題】 被処理物へのマイクロ波の照射効率が高く、被処理物をムラ無く均一に短時間に乾燥することができる浮遊拡散型乾燥方法を提供する。【解決手段】水平方向に配置されている円筒状の処理容器(1)と、該処理容器(1)内に回転駆動可能に設けられている水平回転軸(15)と、該水平回転軸(15)に取り付けられている複数枚のフラット羽根(18’、18”)と、処理容器(1)内にマイクロ波を照射するマイクロ波発信器(40)とから乾燥装置を構成する。被処理物を処理容器(1)内に入れる。フラット羽根(18’、18”)を所定の周速度で駆動して被処理物を所定角度だけ掬い上げ、落下させて浮遊拡散状態にし、マイクロ波を処理容器(1)の上方位置から照射する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

水平方向に配置されている円筒状の処理容器と、該処理容器内に回転駆動可能に設けられている水平回転軸と、該水平回転軸に取り付けられている複数枚のフラット羽根と、前記処理容器内にマイクロ波を照射するマイクロ波発信器とからなる乾燥装置を使用して被処理物を前記処理容器内でバッチ的に乾燥するとき、 前記フラット羽根を所定の周速度で駆動して被処理物を所定角度だけ掬い上げ、落下させて浮遊拡散状態にし、そしてマイクロ波を前記処理容器の上方位置から照射することを特徴とする浮遊拡散型乾燥方法。

IPC (4件)：

F26B 11/16 ,  B01F 7/04 ,  B01F 7/02 ,  F26B 3/347

FI (4件)：

F26B11/16 ,  B01F7/04 A ,  B01F7/02 A ,  F26B3/347

Fターム (27件)：

3L113AA06 ,  3L113AB07 ,  3L113AC12 ,  3L113AC24 ,  3L113AC45 ,  3L113AC46 ,  3L113AC58 ,  3L113AC68 ,  3L113BA02 ,  3L113DA06 ,  3L113DA10 ,  3L113DA11 ,  4G078AA02 ,  4G078AA21 ,  4G078AA30 ,  4G078AB02 ,  4G078AB05 ,  4G078AB09 ,  4G078BA01 ,  4G078BA11 ,  4G078DA01 ,  4G078DA09 ,  4G078DA26 ,  4G078EA01 ,  4G078EA08 ,  4G078EA10 ,  4G078EA20

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 乾燥方法および乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-260963   出願人：大平洋機工株式会社
• マイクロ波乾燥機
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-230184   出願人：三菱重工業株式会社
• 特公平5-051839