特許
J-GLOBAL ID:201003006673599685

メソポーラスシリカナノ粒子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人三枝国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-018489
公開番号(公開出願番号):特開2010-173894
出願日: 2009年01月29日
公開日(公表日): 2010年08月12日
要約:
【課題】メソポーラスシリカナノ粒子の製造方法であって、従来法よりも粒子径及びメソ孔の大きさが制御し易く、しかも球形・単分散で均質性の高いメソポーラスシリカナノ粒子が得られ易い製造方法を提供する。【解決手段】下記工程を含むことを特徴とするメソポーラスシリカナノ粒子の製造方法:(1)界面活性剤、水及び疎水性溶媒を含むエマルション溶液中において、下記工程A及び工程Bを同時又は順次に行うことにより、ポリマー粒子とシリカ粒子の複合粒子であるポリマー・シリカ複合粒子を得る工程1、 ・モノマーと重合開始剤を加えてポリマー粒子を形成する工程A、 ・加水分解によりシラノール化合物を生成するシリカ源と塩基性触媒を加えて前記シラノール化合物を加水分解・脱水縮合させることによりシリカ粒子を形成する工程B、(2)前記ポリマー・シリカ複合粒子から有機成分を除去する工程2。【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記工程を含むことを特徴とするメソポーラスシリカナノ粒子の製造方法: (1)界面活性剤、水及び疎水性溶媒を含むエマルション溶液中において、下記工程A及び工程Bを同時又は順次に行うことにより、ポリマー粒子とシリカ粒子の複合粒子であるポリマー・シリカ複合粒子を得る工程1、 ・モノマーと重合開始剤を加えてポリマー粒子を形成する工程A、 ・加水分解によりシラノール化合物を生成するシリカ源と塩基性触媒を加えて前記シラノール化合物を加水分解・脱水縮合させることによりシリカ粒子を形成する工程B、 (2)前記ポリマー・シリカ複合粒子から有機成分を除去する工程2。
IPC (1件):
C01B 37/00
FI (1件):
C01B37/00
Fターム (25件):
4G073BA63 ,  4G073BA75 ,  4G073BB13 ,  4G073BB48 ,  4G073BB58 ,  4G073BC02 ,  4G073BD22 ,  4G073BD23 ,  4G073CZ53 ,  4G073FA10 ,  4G073FA15 ,  4G073FB42 ,  4G073FC18 ,  4G073FC19 ,  4G073FD13 ,  4G073FF06 ,  4G073GA11 ,  4G073GA13 ,  4G073GA19 ,  4G073GB02 ,  4G073GB07 ,  4G073UA01 ,  4G073UA06 ,  4G073UB29 ,  4G073UB40
引用特許:
審査官引用 (7件)
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