特許
J-GLOBAL ID:201003006673599685
メソポーラスシリカナノ粒子の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
特許業務法人三枝国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-018489
公開番号(公開出願番号):特開2010-173894
出願日: 2009年01月29日
公開日(公表日): 2010年08月12日
要約:
【課題】メソポーラスシリカナノ粒子の製造方法であって、従来法よりも粒子径及びメソ孔の大きさが制御し易く、しかも球形・単分散で均質性の高いメソポーラスシリカナノ粒子が得られ易い製造方法を提供する。【解決手段】下記工程を含むことを特徴とするメソポーラスシリカナノ粒子の製造方法:(1)界面活性剤、水及び疎水性溶媒を含むエマルション溶液中において、下記工程A及び工程Bを同時又は順次に行うことにより、ポリマー粒子とシリカ粒子の複合粒子であるポリマー・シリカ複合粒子を得る工程1、 ・モノマーと重合開始剤を加えてポリマー粒子を形成する工程A、 ・加水分解によりシラノール化合物を生成するシリカ源と塩基性触媒を加えて前記シラノール化合物を加水分解・脱水縮合させることによりシリカ粒子を形成する工程B、(2)前記ポリマー・シリカ複合粒子から有機成分を除去する工程2。【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記工程を含むことを特徴とするメソポーラスシリカナノ粒子の製造方法:
(1)界面活性剤、水及び疎水性溶媒を含むエマルション溶液中において、下記工程A及び工程Bを同時又は順次に行うことにより、ポリマー粒子とシリカ粒子の複合粒子であるポリマー・シリカ複合粒子を得る工程1、
・モノマーと重合開始剤を加えてポリマー粒子を形成する工程A、
・加水分解によりシラノール化合物を生成するシリカ源と塩基性触媒を加えて前記シラノール化合物を加水分解・脱水縮合させることによりシリカ粒子を形成する工程B、
(2)前記ポリマー・シリカ複合粒子から有機成分を除去する工程2。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (25件):
4G073BA63
, 4G073BA75
, 4G073BB13
, 4G073BB48
, 4G073BB58
, 4G073BC02
, 4G073BD22
, 4G073BD23
, 4G073CZ53
, 4G073FA10
, 4G073FA15
, 4G073FB42
, 4G073FC18
, 4G073FC19
, 4G073FD13
, 4G073FF06
, 4G073GA11
, 4G073GA13
, 4G073GA19
, 4G073GB02
, 4G073GB07
, 4G073UA01
, 4G073UA06
, 4G073UB29
, 4G073UB40
引用特許:
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