特許
J-GLOBAL ID：201003032773430832

微粒子合成方法

発明者：
ホームズ、ジャスティン

ホームズ、ジャスティン について

, 
モリス、マイケル

モリス、マイケル について

, 
ハンラーン、ジョン

ハンラーン、ジョン について

, 
キーン、ドナル

キーン、ドナル について

, 
コプリー、マーク

コプリー、マーク について


出願人/特許権者：
ユニバーシティ・カレッジ・コークーナショナル・ユニバーシティ・オブ・アイルランド,コーク

ユニバーシティ・カレッジ・コークーナショナル・ユニバーシティ・オブ・アイルランド,コーク について


代理人 (3件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-516645
公開番号（公開出願番号）：特表2010-533124
出願日： 2008年07月14日
公開日（公表日）： 2010年10月21日
要約：
アルコールと水を含む混合溶媒系に溶解されたシリカ前駆体及び構造規定剤を含む前ゾル溶液の、アンモニウム触媒による加水分解及び縮合反応によりゾルを調製し、平均径が約50μm以下のシリカのメソ多孔性粒子を作製する工程;粒子を熱水処理して細孔径を増加させる工程;粒子を処理して残留する構造規定剤を除去する工程;及び制御された溶解を用いて細孔径を更に増加させる工程、を含むメソ多孔性シリカ微粒子の合成方法。
請求項（抜粋）：
アルコールと水を含む混合溶媒系に溶解されたシリカ前駆体及び構造規定剤を、含む前ゾル溶液の、アンモニウムが触媒する加水分解及び縮合反応によりゾルを調製して、平均径が約50μm以下のシリカのメソ多孔性粒子を作製する工程; 前記粒子を熱水処理して細孔サイズを増加させる工程; 残留する前記構造規定剤を除去するために前記粒子を処理する工程;及び 制御された溶解を用いて細孔サイズを更に増加させる工程 を含む、メソ多孔性シリカ微粒子の合成方法。
IPC (4件)：
C01B 33/12 ,  G01N 30/88 ,  B01J 20/10 ,  B01J 20/30
FI (6件)：
C01B33/12 Z ,  G01N30/88 101K ,  G01N30/88 201G ,  G01N30/88 201X ,  B01J20/10 A ,  B01J20/30
Fターム (48件)：
4G066AA13D ,  4G066AA14D ,  4G066AA16D ,  4G066AA22B ,  4G066AA52D ,  4G066AB06D ,  4G066AB09D ,  4G066AB13D ,  4G066AB18A ,  4G066AB21D ,  4G066AB24D ,  4G066BA09 ,  4G066BA20 ,  4G066BA23 ,  4G066BA25 ,  4G066BA26 ,  4G066EA01 ,  4G066FA05 ,  4G066FA31 ,  4G066FA34 ,  4G066FA37 ,  4G066FA38 ,  4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072BB15 ,  4G072DD03 ,  4G072DD04 ,  4G072DD05 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ33 ,  4G072JJ38 ,  4G072JJ42 ,  4G072KK03 ,  4G072KK07 ,  4G072KK15 ,  4G072MM17 ,  4G072NN27 ,  4G072RR05 ,  4G072RR07 ,  4G072RR12 ,  4G072RR19 ,  4G072TT01 ,  4G072TT05 ,  4G072TT08 ,  4G072UU11 ,  4G072UU13
引用特許：
出願人引用 (8件)
全件表示
審査官引用 (8件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM