特許

J-GLOBAL ID：201003006888457067

パターンマッチング方法、及び画像処理装置

発明者： 佐藤 美道 ,  池田 光二 ,  笹嶋 二大
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (2件)： 井上 学 ,  戸田 裕二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-257940
公開番号（公開出願番号）：特開2010-086925
出願日： 2008年10月03日
公開日（公表日）： 2010年04月15日
要約：

【課題】 本発明は、三次元的に形成されたパターンの深部の状況や試料の帯電の状況に依らず、安定した位置合わせ、或いは特定層の選択的な情報抽出を行うことを目的とした方法、及び当該目的を達成するための装置の提供を目的とする。【解決手段】 上記目的を達成するために、パターン上部の形状が選択的に表現された第1のテンプレートを用いて、複数層が表現された画像情報上で第1のパターンマッチングを行う方法、及び装置を提案する。また、特定層の選択的な抽出を行うために、上記複数層が表現された画像情報、或いは形状情報から、パターン上部の形状に関する情報を差し引く方法、及び装置を提供する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

走査電子顕微鏡にて得られる画像上のパターンと、登録されたテンプレートとの間でパターンマッチングを行うパターンマッチング方法において、複数層からなるパターンが表現された画像情報と、当該複数層の内、パターンの上層が選択的に表現されたテンプレートとの間で、第1のパターンマッチングを行い、当該複数層からなるパターンの位置を特定することを特徴とするパターンマッチング方法。

IPC (4件)：

H01J 37/22 ,  G06T 1/00 ,  G06T 7/00 ,  G01N 23/225

FI (4件)：

H01J37/22 502H ,  G06T1/00 305C ,  G06T7/00 300D ,  G01N23/225

Fターム (25件)：

2G001AA03 ,  2G001BA07 ,  2G001CA03 ,  2G001FA03 ,  2G001GA06 ,  2G001HA07 ,  2G001HA13 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  5B057AA03 ,  5B057CE05 ,  5B057DA07 ,  5B057DA12 ,  5B057DB02 ,  5B057DC16 ,  5B057DC33 ,  5L096AA06 ,  5L096BA03 ,  5L096CA18 ,  5L096EA06 ,  5L096FA06 ,  5L096FA69 ,  5L096HA08 ,  5L096JA09

引用特許：

出願人引用 (1件)

• パターンマッチング装置およびそれを用いた半導体検査システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-314853   出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ