特許
J-GLOBAL ID:200903065328683334
パターンマッチング装置およびそれを用いた半導体検査システム
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
平木 祐輔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-314853
公開番号(公開出願番号):特開2007-121147
出願日: 2005年10月28日
公開日(公表日): 2007年05月17日
要約:
【課題】CADデータの形状とホールパターンの形状が大きく異なる場合でも、正確に位置情報を検出するパターンマッチング装置を提供する。【解決手段】ホールパターンを撮影した画像データ105と、対応するCADデータ104と、を入力可能とする信号入力インターフェース101と、中心位置検出データ111を生成するCADホールパターン中心位置検出手段107と、画像データからパターンデータ112を抽出するパターン抽出手段108と、中心位置データ113を生成する画像ホールパターン中心位置検出手段109と、中心位置データ同士の照合処理により、CADデータに対応する画像データの位置データ114を検出する照合処理手段110と、で構成されたデータ演算部102と、位置データを出力する信号出力インターフェース103と、で構成されている。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
ホールパターンを撮影した画像データに基づいてパターンデータを抽出するパターン抽出部と、
前記パターンデータに基づいてホールパターンの第1の中心位置データを検出する第1の中心位置データ検出部と、
前記ホールパターンのCADデータに基づいて、CADデータのホールパターンの第2の中心位置データを検出する第2の中心位置データ検出部と、
前記第1の中心位置データと、前記第2の中心位置データとを照合し、前記CADデータに対応する前記画像データの位置情報を検出する第1の照合部と
を備えたことを特徴とするパターンマッチング装置。
IPC (5件):
G01B 11/24
, G01N 21/956
, G06T 1/00
, H01L 21/66
, G06T 7/60
FI (6件):
G01B11/24 F
, G01N21/956 A
, G06T1/00 305C
, G01B11/24 K
, H01L21/66 J
, G06T7/60 150C
Fターム (53件):
2F065AA03
, 2F065AA07
, 2F065AA14
, 2F065AA17
, 2F065AA20
, 2F065AA22
, 2F065AA56
, 2F065BB02
, 2F065CC17
, 2F065CC19
, 2F065DD04
, 2F065FF01
, 2F065FF04
, 2F065JJ03
, 2F065QQ04
, 2F065QQ08
, 2F065QQ25
, 2F065QQ33
, 2F065QQ34
, 2F065QQ38
, 2F065QQ42
, 2F065RR05
, 2F065SS02
, 2F065SS13
, 2G051AA51
, 2G051AB02
, 2G051AC04
, 2G051CA20
, 2G051ED04
, 2G051ED11
, 2G051ED23
, 2G051GD05
, 4M106AA01
, 4M106BA02
, 4M106CA39
, 4M106DB04
, 4M106DJ18
, 4M106DJ20
, 4M106DJ27
, 5B057AA03
, 5B057BA02
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057DA07
, 5B057DB02
, 5B057DC05
, 5B057DC34
, 5L096BA03
, 5L096CA02
, 5L096FA62
, 5L096FA69
, 5L096HA07
, 5L096JA03
引用特許:
出願人引用 (2件)
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画像データ比較装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-049264
出願人:富士通株式会社
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ウェーハ検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-098125
出願人:セイコーインスツルメンツ株式会社
審査官引用 (15件)
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穴検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-166551
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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円状パターンの検査装置及びその検査方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-013106
出願人:富士通株式会社
-
画像マスク作成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-233751
出願人:東芝エンジニアリング株式会社
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