特許
J-GLOBAL ID：201003007479835307
ポリカーボネートの製造方法及びこれに使用される配位錯物
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
梶 良之
, 須原 誠
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-506076
公開番号（公開出願番号）：特表2010-526168
出願日： 2008年04月30日
公開日（公表日）： 2010年07月29日
要約：
オニウム塩及びルイス酸の中心金属を含有する本発明の錯化合物は高分子量のポリカーボネートを生成するためのエポキシド及び二酸化炭素の共重合化に対して高温で高い触媒活性を有する。
請求項（抜粋）：
ルイス酸基を有する一つの中心金属原子及び下記化学式1、化学式2、及び化学式3で示した作用基から構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を含む錯化合物の存在下において、エポキシド及び二酸化炭素を共重合反応させることを含むポリカーボネートの製造方法。
[化1]
<化学式1>
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (10件)：
4J029AA09
, 4J029AB01
, 4J029AC02
, 4J029HC06
, 4J029HC07
, 4J029JB252
, 4J029JC141
, 4J029JC621
, 4J029JC711
, 4J029JF571
