特許
J-GLOBAL ID：201003008427178118
尖頭形状部の形成方法及び微細構造体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
佐野 弘
, 石井 明夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-177380
公開番号（公開出願番号）：特開2010-015113
出願日： 2008年07月07日
公開日（公表日）： 2010年01月21日
要約：
【課題】先端部を先鋭に尖らせ易い尖頭形状部の形成方法を提供すると共に、先端部を先鋭に尖らせた微細構造体を容易に製造することができる微細構造体の製造方法を提供する。【解決手段】濃度調整領域の濃度分布を調整してグレースケールマスク25を作製し、基材21上に形成されたフォトレジスト層23を、グレースケールマスク25を用いて露光して現像することにより、濃度調整領域及び濃度分布に応じて、先端部側ほど平面視形状及び側面視形状が細くなる尖頭形状部30を基材21上に形成する方法であり、グレースケールマスク25は、尖頭形状部30の目標形状に対応する基準濃度調整領域よりも先端部の角度を小さくしたり、尖頭形状部30の目標形状に対応する基準濃度分布よりも先端部の濃度分布の勾配を小さくする。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
濃度調整領域の濃度分布を調整してグレースケールマスクを作製し、基材上に形成されたフォトレジスト層を、前記グレースケールマスクを用いて露光して現像することにより、前記濃度調整領域及び前記濃度分布に応じて、先端側ほど平面視形状及び側面視形状が細くなる尖頭形状部を前記基材上に形成する方法であり、
前記グレースケールマスクは、前記尖頭形状部の目標形状に対応する基準濃度調整領域よりも前記濃度調整領域の先端部の角度を小さくする、及び/又は前記尖頭形状部の目標形状に対応する基準濃度分布よりも前記濃度調整領域の先端部の前記濃度分布の勾配を小さくすることを特徴とする尖頭形状部の形成方法。
IPC (4件)：
G03F 1/08
, B81C 1/00
, G03F 7/20
, A61M 5/158
G03F1/08 A
, B81C1/00
, G03F7/20 501
, A61M5/14 369B
, A61M5/14 369D
2H095BB01
, 2H095BB14
, 2H095BB36
, 2H097GB01
, 2H097JA02
, 2H097LA15
, 3C081AA17
, 3C081BA01
, 3C081CA14
, 3C081CA23
, 3C081DA43
, 3C081EA39
, 4C066FF03
, 4C066KK03
, 4C066PP01
