特許

J-GLOBAL ID：201003008870618970

リソグラフィ装置及びデバイス製造方法

発明者： マルケンス,ヨハネス,キャサリヌス,ハーバータス ,  テン カテ,ニコラース
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (2件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-268223
公開番号（公開出願番号）：特開2010-153840
出願日： 2009年11月26日
公開日（公表日）： 2010年07月08日
要約：

【課題】格子プレートの位置測定システムに干渉する汚染物の困難さに対処することを目的とする。【解決手段】一実施形態では、汚染物は、格子又はセンサに接触することが防止される。ある実施形態では、表面弾性波を用いて格子又はセンサの表面から汚染物が除去される。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

基板を保持する基板テーブルと、 基準フレームと、 前記基板テーブル又は前記基準フレームに取り付けられた格子と、 前記基板テーブル又は前記基準フレームの他方に取り付けられたセンサであって、前記格子によって向きが変えられた放射を検出して、前記基板テーブルと前記基準フレームとの間の相対位置を測定するセンサと、 前記格子又はセンサに関連するバリアであって、該関連する格子又はセンサに汚染物が到達するのを妨げる位置にあり、且つ該関連する格子又はセンサから300μm〜5mmの距離にて該関連する格子又はセンサとは反対方向に向いた表面を有するバリアと、 を備えるリソグラフィ装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/68

FI (4件)：

H01L21/30 503G ,  H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/68 F

Fターム (28件)：

5F031CA02 ,  5F031CA11 ,  5F031HA53 ,  5F031JA06 ,  5F031JA07 ,  5F031JA13 ,  5F031JA19 ,  5F031JA22 ,  5F031JA27 ,  5F031JA32 ,  5F031JA37 ,  5F031JA51 ,  5F031KA06 ,  5F031MA27 ,  5F031NA15 ,  5F031NA18 ,  5F031PA23 ,  5F046AA22 ,  5F046BA04 ,  5F046CB01 ,  5F046CC01 ,  5F046CC03 ,  5F046CC15 ,  5F046CC16 ,  5F046DA27 ,  5F046DB05 ,  5F046DC09 ,  5F046DC12

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 光散乱ディスク、その使用及び波面測定装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2008-512753   出願人：カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー