特許
J-GLOBAL ID:201003012926199050
レーザ加工方法及それに使用する装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
笹島 富二雄
, 西山 春之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-249683
公開番号(公開出願番号):特開2010-075982
出願日: 2008年09月29日
公開日(公表日): 2010年04月08日
要約:
【課題】複数の穴のレーザ加工処理時間を短縮する。【解決手段】複数の単位レンズ12が所定ピッチでマトリクス状に並べられ、レーザ光源10から間欠的に放射されるレーザ光の強度分布を均一化するフライアイレンズ3と、搬送されるシリコン基板6に対向して設けられ、シリコン基板6の搬送方向に略直交する方向に複数の集光レンズ13を所定ピッチで並べて形成した複数のレンズ列を有し、各集光レンズ13でレーザ光をシリコン基板6上に集光して、フライアイレンズ3の各単位レンズ12の配置と相似形に配置された複数のビームスポットを生成するマイクロレンズアレイ4と、を備え、マイクロレンズアレイ4の搬送方向先頭側に位置するレンズ列により形成される複数の穴の間を後続のレンズ列により補完してレーザ加工可能に、後続のレンズ列をシリコン基板6の搬送方向に略直交する方向に夫々所定寸法だけずらして形成したものである。【選択図】図1
請求項(抜粋):
被加工物を所定方向に一定速度で搬送しながら、
複数の単位レンズが所定ピッチでマトリクス状に並べられたフライアイレンズでレーザ光源から間欠的に放射されるレーザ光の強度分布を均一化し、
前記被加工物の搬送方向に略直交する方向に複数の集光レンズを所定ピッチで並べて形成した複数のレンズ列を有するマイクロレンズアレイの前記各集光レンズで前記均一化されたレーザ光を前記被加工物上に集光して、前記フライアイレンズの各単位レンズの配置と相似形に配置された複数のビームスポットを生成し、
前記複数のビームスポットにより前記被加工物をレーザ加工して複数の穴を形成し、
前記マイクロレンズアレイの前記被加工物の搬送方向先頭側に位置するレンズ列により形成される前記複数の穴の間を、前記被加工物の搬送方向に略直交する方向に夫々所定寸法だけずらして形成した後続のレンズ列により形成される複数の穴で補完する、
ことを特徴とするレーザ加工方法。
IPC (4件):
B23K 26/38
, B23K 26/067
, B23K 26/073
, B23K 26/08
FI (4件):
B23K26/38 330
, B23K26/067
, B23K26/073
, B23K26/08 D
Fターム (9件):
4E068AF00
, 4E068CA02
, 4E068CA09
, 4E068CB08
, 4E068CD04
, 4E068CD05
, 4E068CD08
, 4E068CD13
, 4E068CE04
引用特許:
出願人引用 (1件)
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レーザ加工装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-040792
出願人:西進商事株式会社
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