特許

J-GLOBAL ID：201003013926011600

電子線装置

発明者： 早田 康成 ,  山梨 弘将 ,  福田 宗行 ,  大橋 健良
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (1件)： ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-315292
公開番号（公開出願番号）：特開2010-140733
出願日： 2008年12月11日
公開日（公表日）： 2010年06月24日
要約：

【課題】電気的なコンタクトの取りにくい試料を荷電粒子で安定的に観察する。【解決手段】被測定試料と電気的なコンタクトをとる試料保持パレットと電気的なコンタクトをとらない試料保持パレットとを設け、被測定試料に応じてパレットを選択する。また、真空内での試料の測定電位と、大気中で測定した試料の測定電位をもとにした予測電位との差を電位オフセットとして記憶し、後段の測定にフィードバックする。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

測定ステージを有する電子光学系を備え、前記測定ステージに載置された被測定試料上の観察領域を走査される入射電子線に対して発生する反射電子や二次電子強度の情報から前記観察領域内のパターンの寸法や形状を測定する電子線装置において、 前記被測定試料を保持して前記測定ステージに搬入出する試料保持パレットを備え、 前記試料保持パレットは、前記被測定試料と電気的なコンタクトをとる導電型の試料保持機能と、前記被測定試料と電気的なコンタクトをとらない絶縁型の試料保持機能とを有しており、 前記被測定試料の状態に応じて前記試料保持パレットの前記何れかの試料保持機能を選択し得るように構成されている ことを特徴とする電子線装置。

IPC (2件)：

H01J 37/20 ,  H01J 37/28

FI (3件)：

H01J37/20 A ,  H01J37/28 B ,  H01J37/20 H

Fターム (8件)：

5C001AA08 ,  5C001BB07 ,  5C001CC04 ,  5C001DD02 ,  5C033UU03 ,  5C033UU04 ,  5C033UU06 ,  5C033UU08

引用特許：

出願人引用 (1件)

• パターン測定方法、及び荷電粒子線装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-193289   出願人：株式会社日立製作所