特許
J-GLOBAL ID：200903020448630303
パターン測定方法、及び荷電粒子線装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-193289
公開番号（公開出願番号）：特開2005-338096
出願日： 2005年07月01日
公開日（公表日）： 2005年12月08日
要約：
【課題】 本発明の目的は、試料上の帯電によって生ずる荷電粒子線装置のフォーカスずれ,倍率変動,測長値誤差を低減するに好適な荷電粒子線照射方法、及び荷電粒子線装置の提供にある。【解決手段】 上記目的を達成するために本発明では、荷電粒子線の搬入機構によって搬入される試料の通過中に、試料上の電位を測定する静電電位計によって試料上の電位分布を計測する手法を提案する。また、試料上の特定箇所の局所帯電を計測し、その帯電量から大域帯電量分を分離して計測する手法を提案する。更に、特定箇所の帯電量を、少なくとも2つの荷電粒子光学条件で計測し、特定箇所の帯電量変化に伴う荷電粒子線を用いた寸法測定値の変化を計測し、この変化に基づいて測長値、或いは倍率を補正する手法を提案する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
半導体ウェハ上に荷電粒子線を走査し、当該荷電粒子線の照射個所から放出される二次荷電粒子を計測して、前記半導体ウェハ上に形成されたパターンを測定するパターン測定方法において、
半導体ウェハの表面方向に亘って形成される大域帯電と、前記荷電粒子線の照射個所に形成される局所帯電から、前記大域帯電に基づく前記荷電粒子線照射個所の焦点、或いは前記局所帯電の値に基づく倍率、又は前記測長についての情報の少なくとも1つを演算することを特徴とするパターン測定方法。
IPC (5件)：
G01B15/04
, H01J37/21
, H01J37/28
, H01L21/027
, H01L21/66
G01B15/04
, H01J37/21 B
, H01J37/28 B
, H01L21/66 J
, H01L21/30 502V
2F067AA21
, 2F067AA54
, 2F067BB01
, 2F067BB27
, 2F067CC17
, 2F067FF18
, 2F067HH06
, 2F067JJ05
, 2F067KK04
, 2F067KK08
, 2F067QQ01
, 2F067QQ11
, 2F067RR24
, 2F067RR41
, 4M106AA01
, 4M106BA02
, 4M106BA03
, 4M106CA02
, 4M106CA39
, 4M106DB05
, 4M106DB20
, 4M106DJ19
, 5C033MM05
, 5C033UU02
, 5C033UU04
, 5C033UU05
, 5C033UU08
出願人引用 (3件)
審査官引用 (16件)
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