特許

J-GLOBAL ID：201003014894394622

ろ過方法、ろ過装置およびろ過池

発明者： 小石 和典
出願人/特許権者： 小石 和典
代理人 (2件)： 杉谷 嘉昭 ,  杉谷 裕通
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-087168
公開番号（公開出願番号）：特開2010-234324
出願日： 2009年03月31日
公開日（公表日）： 2010年10月21日
要約：

【課題】 格別に広いスペースを必要とせず、従来の浄水設備にも容易に適用できると共に生物層で処理して美味しい水を大量に得ることができるろ過方法を提供する。【解決手段】砂(25、40)と該砂に付着して繁殖した微生物とからなる所定の厚さの生物層で被処理水(28、48)をろ過するとき、被処理水に径が80μm以下の空気の気泡を混入した後に前記生物層でろ過する。また、ろ過するとき、必要に応じて被処理水(28、48)を加圧する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

被処理水を所定の砂の層でろ過して浄水を得るとき、前記砂の層に形成され、砂と該砂に付着して繁殖した微生物とからなる所定厚さの生物層で前記被処理水をろ過するろ過方法において、 前記被処理水に、径が80μm以下の空気の気泡を混入した後に、前記生物層でろ過することを特徴とするろ過方法。

IPC (3件)：

C02F 3/06 ,  C02F 1/52 ,  B01D 24/00

FI (5件)：

C02F3/06 ,  C02F1/52 Z ,  B01D29/08 520A ,  B01D29/08 530D ,  B01D29/08 540A

Fターム (16件)：

4D003AA01 ,  4D003AB12 ,  4D003BA02 ,  4D003BA06 ,  4D003CA02 ,  4D003CA03 ,  4D003DA01 ,  4D003EA01 ,  4D003EA22 ,  4D003FA02 ,  4D015BA23 ,  4D015BB05 ,  4D015CA14 ,  4D015FA02 ,  4D015FA15 ,  4D015FA26

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 水処理方法および水処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-353406   出願人：シャープ株式会社
• 特開昭54-016843
  
• 高度浄水処理システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-149967   出願人：株式会社日立製作所
• 特開平3-224524