特許
J-GLOBAL ID:201003015151785682
二酸化炭素の合成ガスへの接触水素化
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
柳田 征史
, 佐久間 剛
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-504530
公開番号(公開出願番号):特表2010-525118
出願日: 2008年04月23日
公開日(公表日): 2010年07月22日
要約:
本発明は、水素、一酸化炭素および二酸化炭素を含有する合成ガス混合物を製造するプロセスであって、二酸化炭素および水素を含有するガス状供給混合物を触媒に接触させる工程を有してなり、この触媒が、Mn酸化物と、Cr、Ni、La、Ce、W、およびPtからなる群より選択される少なくとも1つの元素の酸化物とから実質的になるものであるプロセスに関する。このプロセスにより、選択性が高く、触媒の安定性が良好で、プロセス条件が変動する下で、二酸化炭素の一酸化炭素への水素化が可能になる。このプロセスは、別々に適用しても差し支えないが、メタン改質もしくはアルカン、アルデヒド、またはアルコールなどの生成物を製造するための他の合成プロセスなどの、上流および/または下流両方の、他のプロセスと統合することもできる。
請求項(抜粋):
水素、一酸化炭素および二酸化炭素を含有する合成ガス混合物を製造するプロセスであって、二酸化炭素および水素を含有するガス状供給混合物を触媒に接触させる工程を有してなり、前記触媒が、Mn酸化物と、Cr、Ni、La、Ce、W、およびPtからなる群より選択される少なくとも1つの元素の酸化物とから実質的になることを特徴とするプロセス。
IPC (3件):
C10K 3/02
, B01J 23/34
, B01J 23/656
FI (3件):
C10K3/02
, B01J23/34 M
, B01J23/64 104M
Fターム (37件):
4G169AA03
, 4G169BA01A
, 4G169BA01B
, 4G169BA04A
, 4G169BA05A
, 4G169BA06A
, 4G169BA06B
, 4G169BB02B
, 4G169BB06B
, 4G169BC03A
, 4G169BC04A
, 4G169BC04B
, 4G169BC06A
, 4G169BC10A
, 4G169BC10B
, 4G169BC12A
, 4G169BC12B
, 4G169BC42A
, 4G169BC42B
, 4G169BC43A
, 4G169BC43B
, 4G169BC58A
, 4G169BC58B
, 4G169BC60A
, 4G169BC60B
, 4G169BC62A
, 4G169BC62B
, 4G169BC68A
, 4G169BC75A
, 4G169BC75B
, 4G169CB81
, 4H060AA01
, 4H060BB14
, 4H060DD02
, 4H060EE01
, 4H060EE03
, 4H060FF02
引用特許:
引用文献:
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