特許
J-GLOBAL ID：201003015930178806
合成石英ガラスインゴット及び合成石英ガラス部材の製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
小島 隆司
, 重松 沙織
, 小林 克成
, 石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-101821
公開番号（公開出願番号）：特開2010-229029
出願日： 2010年04月27日
公開日（公表日）： 2010年10月14日
要約：
【解決手段】シリカ原料化合物をバーナーにより形成された火炎によって気相加水分解又は酸化分解してシリカ微粒子をターゲット上に堆積・溶融ガラス化する直接法による合成石英ガラスインゴットを製造する際に、上記ターゲットを前進後退してインゴットを成長させる方法において、(i)シリカ原料化合物を連続的に一定量供給しながら、(ii)成長面全体を常時上記火炎で照射したままで、(iii)ターゲットの前進後退を、所定時間、所定速度、所定成長速度で周期的に繰り返し、(iv)上記インゴット成長形状を一定にして、合成石英ガラスインゴットを得ることを特徴とする合成石英ガラスインゴットの製造方法。【効果】例えば液晶表示用の大型フォトマスク用に使用される大型合成石英ガラス基板用の低脈理な合成石英ガラス部材及びこれを得るための合成石英ガラスインゴットの製造方法。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
シリカ原料化合物をバーナーにより形成された火炎によって気相加水分解又は酸化分解してシリカ微粒子をターゲット上に堆積・溶融ガラス化する直接法による合成石英ガラスインゴットを製造する際に、上記ターゲットを前進後退してインゴットを成長させる方法において、
(i)シリカ原料化合物を連続的に一定量供給しながら、
(ii)成長面全体を常時上記火炎で照射したままで、
(iii)ターゲットの前進後退を、1サイクル当たりの時間が10分以下で、前後移動速度が0.10mm/sec以上0.39mm/sec以下の一定速度であり、後退移動距離と前進移動距離との差である成長距離が0.1〜5mmであるように周期的に繰り返し、
(iv)上記インゴット成長形状を一定にして、
合成石英ガラスインゴットを得ることを特徴とする合成石英ガラスインゴットの製造方法。
IPC (3件)：
C03B 8/04
, C03B 20/00
, G02B 1/02
C03B8/04 C
, C03B8/04 R
, C03B20/00 G
, C03B20/00 K
, G02B1/02
