特許
J-GLOBAL ID:201003017922551274

波長が制御されたルシフェラーゼの発光基質および製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 相原 礼路
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-064595
公開番号(公開出願番号):特開2010-215795
出願日: 2009年03月17日
公開日(公表日): 2010年09月30日
要約:
【課題】 本発明は、ホタルルシフェリン類似体に関する。より詳細には、本発明は、所望の発光波長を有するルシフェラーゼの基質の製造方法および該製造方法によって製造されたホタルルシフェリン類似体に関する。【解決手段】 本発明は、所望の発光波長を有するルシフェラーゼの基質の製造方法であって、発光波長をシフトさせるために、ルシフェリンもしくはルシフェリン類似体における-OH基もしくは-NR1R2基(式中、R1およびR2は、それぞれ独立してHまたはC1-4アルキルである)の一方が他方と化合物を製造する工程、発光波長をシフトさせるために、ルシフェリンもしくはルシフェリン類似体における二重結合の数nが増加もしくは減少された化合物を製造する工程、および/または発光波長をシフトさせるために、前記二重結合部分もしくはベンゼン環の一方が他方と置換された化合物を製造する工程を含む方法を提供する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
所望の発光波長を有するルシフェラーゼの基質の製造方法であって、 発光波長をシフトさせるために、ルシフェリンもしくはルシフェリン類似体における-OH基もしくは-NR1R2基(式中、R1およびR2は、それぞれ独立してHまたはC1-4アルキルである)の一方が他方と化合物を製造する工程、 発光波長をシフトさせるために、ルシフェリンもしくはルシフェリン類似体における二重結合の数nが増加もしくは減少された化合物を製造する工程、および/または 発光波長をシフトさせるために、前記二重結合部分もしくはベンゼン環の一方が他方と置換された化合物を製造する工程、 を含む方法。
IPC (3件):
C09K 11/06 ,  C07D 277/12 ,  C07D 277/66
FI (3件):
C09K11/06 655 ,  C07D277/12 ,  C07D277/66
Fターム (1件):
4C033AC10
引用特許:
出願人引用 (3件)
引用文献:
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