特許
J-GLOBAL ID：201003018703895576

プラズマ処理装置

発明者：
米山 詩麻夫

米山 詩麻夫 について


出願人/特許権者：
株式会社メイコー

株式会社メイコー について


代理人 (1件)： 大山 浩明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-331785
公開番号（公開出願番号）：特開2010-153274
出願日： 2008年12月26日
公開日（公表日）： 2010年07月08日
要約：
【課題】プラズマ電位が低く,より安定した高密度のプラズマを容易に形成する。【解決手段】処理室102内に設けられ,ウエハを載置する載置台110と,処理室内に処理ガスを導入するガス供給部120と,処理室内を排気して減圧する排気部130と,載置台に対向するように板状誘電体104を介して配設された平面状の高周波アンテナ140と,高周波アンテナを覆うように設けられたシールド部材160と,載置台と板状誘電体との間に誘導結合プラズマを生成するための高周波を高周波アンテナに印加する高周波電源150とを備え,高周波アンテナは両端を開放するとともに中点又はその近傍を接地し,前記高周波電源からの高周波の1/2波長で共振するように構成したアンテナ素子142からなる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
減圧された処理室内に処理ガスの誘導結合プラズマを生成することにより被処理基板に所定のプラズマ処理を施すプラズマ処理装置であって, 前記処理室内に設けられ,前記被処理基板を載置する載置台と, 前記処理室内に前記処理ガスを導入するガス供給部と, 前記処理室内を排気して減圧する排気部と, 前記載置台に対向するように板状誘電体を介して配設された平面状の高周波アンテナと, 前記高周波アンテナを覆うように設けられたシールド部材と, 前記板状誘電体と前記載置台との間に前記誘導結合プラズマを生成するための高周波を前記高周波アンテナに印加する高周波電源と,を備え, 前記高周波アンテナは両端を開放するとともに中点又はその近傍を接地し,前記高周波電源からの高周波の1/2波長で共振するように構成したアンテナ素子からなることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (6件)：
H05H 1/46 ,  H05H 1/00 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/205 ,  C23C 16/507
FI (6件)：
H05H1/46 L ,  H05H1/00 A ,  H01L21/302 101C ,  H01L21/31 C ,  H01L21/205 ,  C23C16/507
Fターム (26件)：
4K030DA04 ,  4K030FA04 ,  5F004AA06 ,  5F004BA01 ,  5F004BA16 ,  5F004BB13 ,  5F004BB18 ,  5F004BB22 ,  5F004BB25 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F004DA16 ,  5F004DA26 ,  5F004DB03 ,  5F004DB13 ,  5F045AA08 ,  5F045BB12 ,  5F045DP03 ,  5F045DP04 ,  5F045EH02 ,  5F045EH03 ,  5F045EH11 ,  5F045EH19 ,  5F045EK07 ,  5F045EM05 ,  5F045GB08
引用特許：
出願人引用 (8件)
全件表示
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM