特許
J-GLOBAL ID:201003019141155996

誘電材料の製造方法およびそれにより製造された誘電膜

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 進藤 素子 ,  東口 倫昭
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-020593
公開番号(公開出願番号):特開2010-177571
出願日: 2009年01月30日
公開日(公表日): 2010年08月12日
要約:
【課題】 比誘電率の高い誘電材料を、電場による配向処理を行わずに製造する方法を提供する。また、当該方法を用いて、比誘電率の高い誘電膜を提供する。【解決手段】 誘電材料の製造方法を、高誘電率無機粒子と磁性体粒子とを複合化して高誘電率複合粒子を製造する高誘電率複合粒子製造工程と、樹脂またはエラストマーの未硬化物に、該高誘電率複合粒子を混合して混合材料を調製する混合工程と、該未硬化物が流動可能な状態で、該混合材料に磁場をかけることにより、該高誘電率複合粒子を磁力線の方向に配向させる配向工程と、該高誘電率複合粒子を配向させた状態で、該未硬化物を硬化させる硬化工程と、を有するように構成する。【選択図】 図6
請求項(抜粋):
高誘電率無機粒子と磁性体粒子とを複合化して高誘電率複合粒子を製造する高誘電率複合粒子製造工程と、 樹脂またはエラストマーの未硬化物に、該高誘電率複合粒子を混合して混合材料を調製する混合工程と、 該未硬化物が流動可能な状態で、該混合材料に磁場をかけることにより、該高誘電率複合粒子を磁力線の方向に配向させる配向工程と、 該高誘電率複合粒子を配向させた状態で、該未硬化物を硬化させる硬化工程と、 を有する誘電材料の製造方法。
IPC (7件):
H01L 21/314 ,  H01L 41/26 ,  H01L 41/083 ,  H01L 41/08 ,  H01L 21/312 ,  H04R 17/00 ,  H04R 31/00
FI (7件):
H01L21/314 A ,  H01L41/22 C ,  H01L41/08 S ,  H01L41/08 H ,  H01L21/312 A ,  H04R17/00 ,  H04R31/00 Z
Fターム (15件):
5D004BB04 ,  5D004DD01 ,  5D004DD03 ,  5F058AA07 ,  5F058AA10 ,  5F058AC01 ,  5F058AC03 ,  5F058AC06 ,  5F058AC10 ,  5F058AE10 ,  5F058AG01 ,  5F058AG09 ,  5F058AH10 ,  5F058BA11 ,  5F058BA20
引用特許:
審査官引用 (6件)
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